(trimethylsilyl)methyl radical | 19469-02-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (trimethylsilyl)methyl radical
• 英文别名: Trimethylsilylmethyl (Silaneopentyl-Radikal)
• CAS: 19469-02-4
• 化学式: C₄H₁₁Si
• 分子量: 87.2168
• InChiKey: PZIWCHIVEVJUQP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (trimethylsilyl)methyl radical 在 三正丁基氢锡 作用下， 以 异辛烷 、 苯 为溶剂， 生成 四甲基硅烷
  参考文献：
  名称：

  Absolute rate constants for some intermolecular and intramolecular reactions of .alpha.-, .beta.-, and .gamma.-silicon-substituted radicals

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00209a045
• 作为产物：
  描述：

  四甲基硅烷 在 Hg-sensitizer 氢气 作用下， 151.9~296.9 ℃ 、133.32 Pa 条件下， 生成 (trimethylsilyl)methyl radical
  参考文献：
  名称：

  （CH 3）4 Si + H⇌H 2 +（CH 3）3 SiCH 2体系的研究

  摘要：

  H +（CH 3）4 Si⇌H 2 +（CH 3）3 SiCH 2（1，–1）反应系统已在425-570 K的温度范围内的脉冲光解实验中进行了研究。H原子由Hg产生H 2的光敏光解，并通过Lyman- α吸收进行监测。在133 Pa的H 2压力下测量的正向反应速率常数由以下表达式给出：k（1）/ cm 3 s –1 =（7.5±4.0）×10 –11 exp [（– 3990±300 ）/ T ]。

  DOI：

  10.1039/ft9908601407

文献信息

• Arican, Haluk; Arthur, Neville L., Australian Journal of Chemistry, 1983, vol. 36, # 11, p. 2185 - 2194
  作者：Arican, Haluk、Arthur, Neville L.

  DOI：——

  日期：——
• Kinetic studies of the reaction of chlorine atoms with tetramethylsilane
  作者：Yannis G. Lazarou、Panos Papagiannakopoulos

  DOI：10.1021/j100128a010

  日期：1993.7

  The reaction Cl + (CH3)4Si --> HCI + (CH3)3SiCH2 has been studied with the very low pressure reactor (VLPR) technique in the temperature range 273-363 K. The rate constant for the forward reaction is given by the expression k = (3.58 +/- 0.76) x 10(-10) exp[(-490 +/- 240)/RT] c,3 molecule-1 s-1 (R is expressed in cal mol-1 K-1). The conventional transition-state (TS) theory indicates that the TS is bent with a Cl...H...C angle ca. 160-degrees and the Cl atom on the H...C---Si plane and inside the methyl group cone. The (CH3)3SiCH2 radical was observed as a reaction product, and it appears to be a rather stable radical due to a d-p electron delocalization.
• Quantitative measure of .alpha.-silyl carbanion stabilization. The electron affinity of (trimethylsilyl)methyl radical
  作者：Donna M. Wetzel、John I. Brauman

  DOI：10.1021/ja00233a008

  日期：1988.12