N-(chlorodimethylsilyl)-N,N-bis(trimethylsilyl)amine | 1586-72-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: N-(chlorodimethylsilyl)-N,N-bis(trimethylsilyl)amine
• 英文别名: chlorodimethylsilylbis(trimethylsilyl)amine；ClSiMe2N(SiMe3)2；1-Chloro-1,1-dimethyl-N,N-bis(trimethylsilyl)silanamine；[[[chloro(dimethyl)silyl]-trimethylsilylamino]-dimethylsilyl]methane
• CAS: 1586-72-7
• 化学式: C₈H₂₄ClNSi₃
• 分子量: 253.995
• InChiKey: OXVOQFKDEMIGAB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  58-60 °C
• 沸点：
  89-90 °C(Press: 9 Torr)
• 密度：
  0.886±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(chlorodimethylsilyl)-N,N-bis(trimethylsilyl)amine 在 sodium amide 作用下， 以 正戊烷 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 1,1,1,3,3,5,5,5-Octamethyl-trisilazan
  参考文献：
  名称：

  CYCLIC GERMANIUM SILYLAMIDO PRECURSORS FOR GE-CONTAINING FILM DEPOSITIONS AND METHODS OF USING THE SAME

  摘要：

  在基底上形成含锗膜的方法包括以下步骤：将环状Ge(II)硅胺基前体的蒸气引入反应器，该反应器中放置有基底，并使用蒸发沉积方法将至少部分环状Ge(II)硅胺基前体沉积到基底上，以形成含锗膜。环状Ge(II)硅胺基前体是[SiMe3-(N—)—SiMe2-(N—)—SiMe3]Ge(II)或[tBu-(N—)—SiMe2-(N—)-tBu]Ge(II)。

  公开号：

  US20210032275A1
• 作为产物：
  描述：

  dimethylsilyl bistrimethylsilyl amine 在 吡啶 、 氯 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 生成 N-(chlorodimethylsilyl)-N,N-bis(trimethylsilyl)amine
  参考文献：
  名称：

  取代的三甲硅烷基胺。第一部分：三甲硅烷基胺体系中氢和苯基取代基的性质

  摘要：

  所述trisilylamines（ME 3 Si）的ñ N（森达2 1H）3- Ñ（Ñ = 0，1，2）和（ME 3 Si）的2 N·的Si（ME 2）PH被报告。在与烯烃的加成反应和水解中，前一种化合物中的SiH功能非常惰性，但通常可被卤化。已经将该化合物的水解稳定性与其他类型的SiN化合物的水解稳定性进行比较，并且显示出很高的水解稳定性。特别地，（Me 3 Si）2 NBu t的水解比（Me 3 Si）3 N快得多。

  DOI：

  10.1039/j19690000253

文献信息

• Reaktionen von Bis(trimethylsilyl)amino-substituierten Chlorsilanen [(Me3Si)2N]Me2−nPhnSiCl (n=0, 1, 2) mit Lithium—Darstellung von Bis(trimethylsilyl)amino-substituierten Silyllithiumverbindungen und Disilanen
  作者：Ildikó Rietz、Eckhard Popowski、Helmut Reinke、Manfred Michalik

  DOI：10.1016/s0022-328x(97)00752-3

  日期：1998.4

  formation of bis(trimethylsilyl)aminosilyllithium [(Me3Si)2N]MePhSiLi (6), which reacts with Me3SiCl and 2 resp. to the corresponding disilanes [(Me3Si)2N]MePhSi–SiMe3 (7) and [(Me3Si)2N]MePhSi}2 (8). 6 undergoes partially self-condensation at −40 and 0°C and the disilanyllithium [(Me3Si)2N]MePhSi–SiMePhLi (9) is formed. 3 reacts rapidly at 0 and −20°C to give the silyllithium [(Me3Si)2N]Ph2SiLi (12).

  双（三甲基硅基）氨基取代的氯硅烷[（ME 3 Si）的2 N]我2- Ñ博士Ñ的SiCl（1：Ñ = 0，2：Ñ = 1，3：Ñ = 2）被允许与锂反应四氢呋喃中的金属。1在室温下与均偶联产物[（Me 3 Si）2 N] Me 2 Si} 2（4）缓慢反应。1和Me 3 SiCl的等摩尔混合物得到4和交叉偶联产物[（Me3 Si）2 N] Me 2 Si–SiMe 3（5）。2在-78°C下的反应导致形成双（三甲基甲硅烷基）氨基甲硅烷基锂[（Me 3 Si）2 N] MePhSiLi（6），该双（Me 3 Si）2 N] MePhSiLi（6）与Me 3 SiCl和2分别反应。相应的乙硅烷[（Me 3 Si）2 N] MePhSi–SiMe 3（7）和[（Me 3 Si）2 N] MePhSi} 2（8）。6在-40和0°C下经历部分自缩合，形成了[[Me 3 Si）2 N] MePh
• Synthesis of two aminosilanes as CVD precursors of SiC_xN_yfilms: Tuning film composition by Molecular Structures
  作者：Liyong Du、Yanlong Bai、Wenxiang Chu、Yuqiang Ding

  DOI：10.1080/10426507.2018.1455682

  日期：2018.9.2

  aminosilanes derived from hexamethyldisilazane as chemical vapor deposition (CVD) precursors for SiCxNy and relevant films have been reported and characterized by 1H, 13C, and 29Si NMR as well as by EI-MS and elemental analysis, where necessary. Thermal stability, transport behavior and vapor pressures were evaluated by simultaneous thermal analyses (STA). Chemical vapor deposition was accomplished in

  图形摘要摘要 衍生自六甲基二硅氮烷的两种氨基硅烷作为 SiCxNy 和相关薄膜的化学气相沉积 (CVD) 前体已有报道，并在必要时通过 1H、13C 和 29Si NMR 以及 EI-MS 和元素分析进行​​表征。通过同步热分析 (STA) 评估热稳定性、传输行为和蒸汽压。化学气相沉积在热壁 CVD 反应器系统中完成，以进一步证明这些化合物作为 CVD 前体的能力。最重要的是，生长薄膜的表征（XPS）证明薄膜的组成可以通过前体的分子结构来控制。结果表明了未来为 SiCxNy 和相关薄膜设计 CVD 前体的策略。
• Acyclic and Cyclic Silylaminohydrazines
  作者：Uwe Klingebiel、Christoph Matthes、Arne Ringe、Jörg Magull

  DOI：10.1515/znb-2009-0508

  日期：2009.5.1

  ClSiMe2N(SiMe3)2 in a molar ratio 1 : 2 gave the bis(silylamino) hydrazine [HNSiMe2-N(SiMe3)2]2 (1). Compound 1 forms a monomeric dilithium salt with BuLi. From n-hexane (Me3Si-NSiMe2-NLiSiMe3)2 (2) crystallizes while from THF [Me3Si-NSiMe2- NLi(THF)SiMe3]2 (3) precipitates. Compounds 2 and 3 are formed from 1 via a silyl group migration. In the rearranged salts, the silyl groups are bonded at the hydrazino

  H2N-NH2与ClSiMe2N(SiMe3)2以1:2的摩尔比反应得到双(甲硅烷基氨基)肼[HNSiMe2-N(SiMe3)2]2(1)。化合物 1 与 BuLi 形成单体二锂盐。从正己烷 (Me3Si-NSiMe2-NLiSiMe3)2 (2) 结晶，而从 THF [Me3Si-NSiMe2-NLi(THF)SiMe3]2 (3) 沉淀。化合物 2 和 3 由 1 通过甲硅烷基迁移形成。在重排的盐中，甲硅烷基键合在肼氮原子上。2 的水解导致形成 (Me3Si-N-SiMe2-NHSiMe3)2 (4)，它是 1 的结构异构体。在 2 或 3 与 F3B·OEt2 或 SiF4 的反应中发生闭环。七元环 (Me3Si-N-SiMe2-NSiMe3)2BF (5) 和 (Me3Si-NSiMe2-NSiMe3)2SiF2, (6) 作为产物被分离出来。2、3和5的晶体结构已经确定。
• [EN] [BIS(TRIHYDROCARBYLSILYL)AMINOSILYL]-FUNCTIONALIZED STYRENE AND A METHOD FOR ITS PREPARATION<br/>[FR] STYRÈNE À FONCTIONNALITÉ [BIS(TRIHYDROCARBYLSILYL)AMINOSILYLE] ET PROCÉDÉ POUR SA PRÉPARATION
  申请人：SYNTHOS SA

  公开号：WO2018065486A1

  公开（公告）日：2018-04-12

  The invention relates to [bis (trihydrocarbylsilyl) aminosilyl] - functionalized styrene and a method for its preparation. The invention further relates to the use of the styrene derivative in the preparation of a copolymer thereof. The styrene derivative is preferably used as comonomer in the production of elastomeric copolymers. Alternatively, or additionally, it is used in the preparation of a polymerization initiator.

  本发明涉及[bis (trihydrocarbylsilyl) aminosilyl] -功能化苯乙烯及其制备方法。本发明还涉及在其共聚物制备中使用苯乙烯衍生物。该苯乙烯衍生物优选用作弹性共聚物生产中的共聚单体。或者，它也可用于制备聚合引发剂。
• Synthesis, Structure and Reactivity of a Zirconocene Dichloride with (Me ₃ Si) ₂ NSiMe ₂ Side‐Chains
  作者：Alexander Rau、Hans‐Peter Dornik、Helmut Paulus、Gerhard Luft

  DOI：10.1002/1099-0682(200107)2001:7<1785::aid-ejic1785>3.0.co;2-#

  日期：2001.7