Di(tert-butylamino)dichlorosilan | 18881-65-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Di(tert-butylamino)dichlorosilan
• 英文别名: (NHt-bu)2SiCl2；bis-tert-butylamino-dichloro-silane；Bis-tert-butylamino-dichlor-silan；Di(t-butylamino)dichlorosilane；N-[(tert-butylamino)-dichlorosilyl]-2-methylpropan-2-amine
• CAS: 18881-65-7
• 化学式: C₈H₂₀Cl₂N₂Si
• 分子量: 243.252
• InChiKey: YAVHVGQYEXLRDQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -9--6 °C
• 沸点：
  98-101 °C(Press: 14 Torr)
• 密度：
  1.0358 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.68
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  24.1
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Di(tert-butylamino)dichlorosilan 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 Di(N-lithio-tert-butylamino)bis(dimethylamino)silane
  参考文献：
  名称：

  Dimeres Di(N-lithium–tert–butylamino)bis(dimethylamino)silan - [Si(N(CH₃)₂)₂(NLiC(CH₃)₃)₂]₂ – Darstellung und Kristallstruktur / Dimeric Di(N -lithio-tert-butylamino)bis(dimethylamino)silane - [Si(N(CH₃)₂)₂(NLiC(CH₃)₃)₂]₂ – Synthesis und Crystal Structure

  摘要：

  摘要：[Si(N(CH3)2)2(NLiC(CH3)3)2]2 是由四氯化硅与过量的叔丁胺反应产生的产物，随后通过卤素替换与LiN(CH3)2反应，并在己烷中用正丁基锂处理。在固态中发现的标题化合物是二聚体，通过单晶X射线衍射（三斜晶系，P1，a = 10.208(2)，b = 12.140(2)，c = 15.658(3) Å，α = 79.02(3)，β = 82.80(3)，γ = 67.19(3)°，Z = 2，C24H60Li4N8Si2），以及固态和溶液核磁共振光谱和质谱进行了表征。

  DOI：

  10.1515/znb-2001-0115
• 作为产物：
  描述：

  叔丁胺 在 四氯化硅 作用下， 以 正戊烷 为溶剂， 反应 18.0h， 以88%的产率得到Di(tert-butylamino)dichlorosilan
  参考文献：
  名称：

  Aminolysis of the Si–Cl bond and ligand exchange reaction between silicon amido derivatives and SiCl4: synthetic applications and kinetic investigationsElectronic supplementary information (ESI) available: details of the aminolysis and the ligand exchange reaction. See http://www.rsc.org/suppdata/dt/b2/b210282j/

  摘要：

  SiCln(NR2)4-n (n = 1, 2, 3, 4) 中 Si–Cl 键的氨解反应已被用于合成二元氨基、氯氨基或混合氨基衍生物，这取决于硅衍生物和胺的性质。反应动力学在一些代表性案例中进行了研究，即 SiCl4 + NHiPr2、SiCl(NMe2)3 + NH2iPr、SiCl2(NEt2)2 + NH2iPr，结果表明速率法则对硅化合物是一阶反应，并且不依赖于胺的浓度。此外，已确定 SiCl2(NEt2)2 与 NH2iPr 的反应的活化参数。SiCl4 和 SiCln(NR2)4-n 之间的配体交换反应生成多种氯氨基衍生物，其组成严格由反应物的摩尔比决定。对于 n = 3（R = Me）和 n = 2（R = Et），研究了 SiCl4 与 SiCln(NR2)4-n 之间的反应动力学。此外，在后者的情况下已确定平衡和活化参数。

  DOI：

  10.1039/b210282j

文献信息

• Preparation, spectroscopic characterization, and deprotonation reactions of Si(NHR)₄ (R = <i>i</i>-Pr, <i>t</i>-Bu, <i>p</i>-tolyl) — EPR identification of persistent radicals formed by oxidation of polyimidosilicates
  作者：Andrea F Armstrong、Tristram Chivers、Jari Konu

  DOI：10.1139/v05-264

  日期：2006.1.1

  Treatment of Cl₂Si(NH-t-Bu)₂ (6a) with t-BuNH₂ in boiling toluene yields trisamino(chloro)silane ClSi(NH-t-Bu)₃ (7); formation of the tetraaminosilane Si(NH-t-Bu)₄ is not observed. The reaction of SiCl₄ with 4 equiv. of LiNHR produces the corresponding tetraaminosilanes Si(NHR)₄ (2a, R = i-Pr; 2b, R = t-Bu; 2c, R = p-tol) in good yields. When the sterically demanding adamantyl derivative LiHNAd is employed, only disubstitution occurs to form Cl₂Si(NHAd)₂ (6b). Oxidation of the dimeric imidosilicates Li₃[Si(NR)₃(NHR)]·THF}₂ (3a, R = i-Pr; 3b, R = t-Bu) with 1 mol of iodine produces the persistent radicals Li₂[Si(NR)₃(NHR)]·LiI·3THF}^·, which, on the basis of EPR spectra, exist as SiN₃Li₃I cubes in solution. The spirocyclic tetraimidosilicate monoanion radical [(THF)₂Li(µ-Nnaph)₂Si(µ-Nnaph)₂Li(THF)₂]}^–· (10) is formed upon oxidation of the tetralithiated species Li₄[Si(Nnaph)₄]·4Et₂O} (1) and [Li(12-crown-4)]₂[(Et₂O)₂Li(µ-Nnaph)₂Si(µ-Nnaph)₂Li(Et₂O)₂]} (8) with iodine. The spectroscopic characterization of hexa(amino)disiloxane (t-BuNH)₃SiOSi(NH-t-Bu)₃ (14) formed from the reaction of Cl₃SiOSiCl₃ with 6 equiv. of LiNH-t-Bu is discussed. Key words: imido ligands, silicate, radicals, EPR spectra, lithium.

  在沸腾的甲苯中用t-BuNH₂处理Cl₂Si(NH-t-Bu)₂（6a）可生成三氨基（氯）硅烷ClSi(NH-t-Bu)₃（7）；未观察到四氨基硅烷Si(NH-t-Bu)₄的形成。SiCl₄与4当量的LiNHR反应产生相应的四氨基硅烷Si(NHR)₄（2a，R = i-Pr；2b，R = t-Bu；2c，R = p-tol）收率较高。当使用立体位阻的莽丁基衍生物LiHNAd时，只发生二取代反应形成Cl₂Si(NHAd)₂（6b）。氧化双聚合物硝基硅酸锂Li₃[Si(NR)₃(NHR)]·THF}₂（3a，R = i-Pr；3b，R = t-Bu）与1摩尔碘反应产生持久自由基Li₂[Si(NR)₃(NHR)]·LiI·3THF}^·，根据EPR谱，这些自由基在溶液中存在SiN₃Li₃I立方体形式。在氧化四锂物种Li₄[Si(Nnaph)₄]·4Et₂O}（1）和[Li(12-crown-4)]₂[(Et₂O)₂Li(µ-Nnaph)₂Si(µ-Nnaph)₂Li(Et₂O)₂]}（8）与碘反应后形成螺环四硝基硅酸盐单负离子自由基[(THF)₂Li(µ-Nnaph)₂Si(µ-Nnaph)₂Li(THF)₂]}^–·（10）。讨论了由Cl₃SiOSiCl₃与6当量LiNH-t-Bu反应形成的六（氨基）二硅氧烷（t-BuNH）₃SiOSi(NH-t-Bu)₃（14）的光谱表征。关键词：硝基配体，硅酸盐，自由基，EPR谱，锂。
• ハロゲン化アミノシラン化合物、薄膜形成用組成物およびシリコン含有薄膜
  申请人：大陽日酸株式会社

  公开号：JP2020186193A

  公开（公告）日：2020-11-19

  【課題】化学気相成長法を用いたシリコン含有薄膜の形成に適用可能な、新規な原料化合物を提供する。【解決手段】下式１または下式２で表されるハロゲン化アミノシラン化合物。［化１］［化２］【選択図】なし

  提供适用于利用化学气相沉积法形成含硅薄膜的新型原料化合物。解决方案是以下式1或以下式2所示的卤代氨基硅烷化合物。【化1】【化2】。【选择图】无。
• シリコン含有薄膜形成用シリコン含有化合物、及びシリコン含有薄膜の形成方法
  申请人：大陽日酸株式会社

  公开号：JP2020188100A

  公开（公告）日：2020-11-19

  【課題】化学気相成長法を用い、５００℃未満の成膜温度で良質なシリコン含有薄膜を形成可能であり、副生成物の生成量が少ないシリコン含有薄膜形成用シリコン含有化合物を提供する。【解決手段】化学気相成長法によってシリコン含有薄膜を形成する際、特定の構造を有するクロロアミノシラン化合物をシリコン含有化合物として用いる。【選択図】なし

  题目：提供一种用于形成高质量含有硅薄膜的含有硅化合物，使用化学气相沉积法，成膜温度低于500℃，副产物生成量少。 解决方法：在使用化学气相沉积法形成含有硅薄膜时，使用具有特定结构的氯氨基硅烷化合物作为硅含量化合物。 选择图：无。
• Breederveld, H.; Waterman, H. I., 1953, vol. 6, p. 43 - 43
  作者：Breederveld, H.、Waterman, H. I.

  DOI：——

  日期：——
• Breederveld; Waterman, Research (London), 1953, vol. 6, p. Spl.50
  作者：Breederveld、Waterman

  DOI：——

  日期：——