silanone | 22755-01-7

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属有机物
• 英文名称: silanone
• 英文别名: Oxosilane
• CAS: 22755-01-7
• 化学式: H₂OSi
• 分子量: 46.1008
• InChiKey: HZBAVWLZSLOCFR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.04
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  silaformyl anion 、 硝基甲烷 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 silanone
  参考文献：
  名称：

  Gronert, Scott; O'Hair, Richard A. J.; Prodnuk, Stephen, Journal of the American Chemical Society, 1990, vol. 112, p. 998 - 1003

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Time-Resolved Gas-Phase Kinetic, Quantum Chemical and RRKM Studies of Reactions of Silylene with Cyclic Ethers
  作者：Rosa Becerra、J. Pat Cannady、Olivia Goulder、Robin Walsh

  DOI：10.1021/jp908289h

  日期：2010.1.21

  obtain rate constants for its bimolecular reactions with oxirane, oxetane, and tetrahydrofuran (THF). The reactions were studied in the gas phase over the pressure range 1−100 Torr in SF6 bath gas, at four or five temperatures in the range 294−605 K. All three reactions showed pressure dependences characteristic of third-body-assisted association reactions with, surprisingly, SiH2 + oxirane showing

  已经进行了通过激光快速光解苯基硅烷而产生的甲硅烷SiH 2的时间分辨动力学研究，以获得其与环氧乙烷，氧杂环丁烷和四氢呋喃（THF）的双分子反应的速率常数。在SF 6浴气体中压力为1-100 Torr的气相中，在294-605 K范围内的四个或五个温度下对反应进行了研究。所有三个反应均显示出第三体缔合反应的压力依赖性特征令人惊讶的是，SiH 2 +环氧乙烷的含量最少，而SiH 2+ THF显示最大的压力依赖性。通过外推至各温度下的高压限制所获得的二阶速率常数嵌合阿仑尼乌斯方程，其中误差极限单个标准偏差：77，97，和千焦摩尔92的结合能量值-1已经获得了通过在G3级进行的量子化学（从头算）计算，分别将SiH 2与环氧乙烷，氧杂环丁烷和THF的供体-受体配合物。使用这些值通过RRKM理论对这些反应的压力依赖性进行建模，仅在SiH 2 + THF的情况下才提供了很好的拟合。在其他两种情况下缺乏合适性归因于SiH
• Kinetics of the silyl + oxygen reaction studied by time-resolved mass spectrometry
  作者：Mitsuo Koshi、Akira Miyoshi、Hiroyuki Matsui

  DOI：10.1021/j100177a047

  日期：1991.11

  The SiH3 + O2 reaction was studied by means of time-resolved mass spectrometric detection of SiH3 with a near-threshold electron impact ionization technique. The rate constant of (1.26 +/- 0.18) x 10(-11) cm3 molecule-1 s-1 at T = 293 K was determined from the first-order decay rates of SiH3 produced in ArF (193 nm) laser photolysis of CCl4/SiH4/O2/He or N2O/SiH4/O2/He mixtures. The signal at m/z 47 attributable to SiH3O could be detected as a direct product of the SiH3 + O2 reaction. On the basis of kinetic simulations, the branching ratio for the reaction of SiH3 + O2 --> HSiOOH + H was determined to be 0.6 +/- 0.1. Branching ratios for the other two channels, SiH3 + O2 --> SiH3O + O and SiH2O + OH, were estimated to be 0.16 and 0.24, respectively.
• Gronert, Scott; O'Hair, Richard A. J.; Prodnuk, Stephen, Journal of the American Chemical Society, 1990, vol. 112, p. 998 - 1003
  作者：Gronert, Scott、O'Hair, Richard A. J.、Prodnuk, Stephen、Suelzle, Detlev、Damrauer, Robert、DePuy, Charles H.

  DOI：——

  日期：——

表征谱图