3,3,3-Trifluoro-2-methyl-2-(naphthalene-2-carbonyloxy)propane-1-sulfonic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 3,3,3-Trifluoro-2-methyl-2-(naphthalene-2-carbonyloxy)propane-1-sulfonic acid
• 英文别名: 3,3,3-trifluoro-2-methyl-2-(naphthalene-2-carbonyloxy)propane-1-sulfonic acid
• 化学式: C₁₅H₁₃F₃O₅S
• 分子量: 362.3
• InChiKey: HLBCHTRMQNRAPW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  89
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

文献信息

• RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING PROCESS, POLYMER, AND MONOMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170184967A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  A polymer comprising recurring units containing a specific lactone ring and having an alkyl group on γ-butyrolactone skeleton of fused ring lactone and an alkyl ester substituent group intervening between the lactone structure and the polymer backbone is provided. A resist composition comprising the polymer as base resin is improved in such properties as DOF margin and MEF and quite effective for precise micropatterning.

  提供一种聚合物，其中包含含有特定内酯环的重复单元，并且在融合环内酯的γ-丁内酯骨架上具有烷基基团，以及在内酯结构和聚合物主链之间具有烷基酯取代基团。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物在DOF边缘和MEF等性能方面得到改善，并且非常有效用于精确微图案化。