Die Erfindung betrifft Verbindungen, die in Form der freien Säuren der allgemeinen Formel I
entsprechen, in der
D einen gegebenenfalls noch weiter substituierten, sulfogruppenhaltigen Phenyl- oder Naphthylrest,
n die Zahlen 1 oder 2,
R1 Wasserstoff, C1-C10-Alkyl, Cycloalkyl, Benzyl oder einen Rest der Formel C2H4OR4, C2H4-OC2H4OR4, C3H6OR4 oder
R2 ein Rest R1 oder sulfogruppenfreies, gegebenenfalls substituiertes Phenyl,
R3 Wasserstoff, Methyl, Methoxy, Chlor oder Sulfo und
X für n = 1 mindestens einen reaktiven Rest und für n = 2 eine Gruppe der Formel
bedeuten, wobei
R4 C1-C4-Alkyl,
X1 und X2 reaktive Reste und
B ein Brückenglied sind, mit der Maßgabe, daß nicht R1 = R2 = H sind und daß für R2 = Phenylrest und n = 1 X kein Rest der Vinylsulfonreihe ist.
本发明涉及的化合物以
游离酸的形式,符合通式 I
其中
D 是可进一步取代的含
硫苯基或
萘基、
n 是数字 1 或 2、
R1 是氢、C1-C10 烷基、环烷基、苄基或式 OR4、
C2H4-O OR4、C3H6OR4 或 C3H6OR4 的基团。
R2 是基 R1 或不含磺基的任选取代苯基、
R3 是氢、甲基、甲氧基、
氯或亚砜,以及
X 在 n = 1 时是至少一个活性基,在 n = 2 时是式中的一个基团
其中
R4 是 C1-C4- 烷基、
X1 和 X2 是活性基,以及
B 是桥基,但 R1 = R2 = H,R2 = 苯基和 n = 1 时 X 不是
乙烯基砜系列的基团。