Strahlungsempfindliches, ethylenisch ungesättigte, copolymerisierbare Verbindungen und Verfahren zu deren Herstellung
申请人:BASF Aktiengesellschaft
公开号:EP0377191A2
公开(公告)日:1990-07-11
Die Erfindung betrifft strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesättigte Verbindungen und ein Verfahren zu deren Herstellung.
Die ethvlenisch unaesättigten oraanischen Verbindunaen entsprechen der allaemeinen Formel
worin
R für einen Alkylrest, für einen Arylrest oder den Rest R1 steht und
R1 für den Rest
steht, wobei die Reste R2 bis R6 für H, Alkyl, OH, OAlkyl, SH, SAlkyl, Halogen, N(Alkyl)2, N(Alkyl)(Aryl) stehen und mindestens einer aber maximal drei der Reste R2 bis R6 für den Rest
oder
stehen, worin X für einen Alkylenrest, Cycloalkylenrest, einen Oxaalkylenrest oder Arylenrest, Y für H oder CH3- und Z für 0 oder NY stehen.
本发明涉及对辐射敏感的乙烯基不饱和化合物及其制备方法。
乙烯基不饱和芳香族化合物符合通式
式中
R 是烷基、芳基或自由基 R1 和
R1 是基团
其中 R2 至 R6 为 H、烷基、OH、邻烷基、SH、烷基、卤素、N(烷基)2、N(烷基)(芳基),且 R2 至 R6 中至少有一个但不超过三个为基团
或
其中 X 代表烯基、环烷基、氧杂环烷基或芳基,Y 代表 H 或 CH3-,Z 代表 0 或 NY。