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二硅烷,1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(1-甲基乙基)- | 144742-07-4

中文名称
二硅烷,1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(1-甲基乙基)-
中文别名
——
英文名称
1,2-Dimethoxy-1,1,2,2-tetra(propan-2-yl)disilane
英文别名
methoxy-[methoxy-di(propan-2-yl)silyl]-di(propan-2-yl)silane
二硅烷,1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(1-甲基乙基)-化学式
CAS
144742-07-4
化学式
C14H34O2Si2
mdl
——
分子量
290.594
InChiKey
GWGYNNJZBMNPOH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 反应信息
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物化性质

  • 沸点:
    282.2±9.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.841±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.89
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    18.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:5fd1beca0bd98cc4d341263b32292c8b
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    二硅烷,1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(1-甲基乙基)-二氯二茂钛异丙基氯化镁 作用下, 以 乙醚 为溶剂, 反应 6.0h, 以73%的产率得到1,1,2,2-tetraisopropylmethoxydisilane
    参考文献:
    名称:
    格氏试剂对二氯低聚硅烷的选择性催化单还原
    摘要:
    报道了用格氏试剂的过渡金属催化的二氯低聚硅烷的单还原。在所研究的催化剂中,第4组金属氯化物(如TiCl 4和Cp 2 TiCl 2)具有最高的反应活性和良好的选择性。通过改变催化剂和格氏试剂来有效地控制还原能力,从而根据低聚硅烷底物获得足够的选择性。
    DOI:
    10.1016/j.tetlet.2013.10.050
  • 作为产物:
    描述:
    甲醇1,2-dichlorotetraisopropyldisilane咪唑 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 以78%的产率得到二硅烷,1,2-二甲氧基-1,1,2,2-四(1-甲基乙基)-
    参考文献:
    名称:
    格氏试剂对二氯低聚硅烷的选择性催化单还原
    摘要:
    报道了用格氏试剂的过渡金属催化的二氯低聚硅烷的单还原。在所研究的催化剂中,第4组金属氯化物(如TiCl 4和Cp 2 TiCl 2)具有最高的反应活性和良好的选择性。通过改变催化剂和格氏试剂来有效地控制还原能力,从而根据低聚硅烷底物获得足够的选择性。
    DOI:
    10.1016/j.tetlet.2013.10.050
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文献信息

  • Photoinduced electron-transfer reaction of 7,8-disilabicyclo[2.2.2]octa-2,5-dienes
    作者:Masahiro Kako、Kaname Hatakenaka、Kakuma Seiji、Masumi Ninomiya、Yasuhiro Nakadaira、Masanori Yasui、Fujiko Iwasaki、Masanobu Wakasa、Hisaharu Hayashi
    DOI:10.1016/s0040-4039(98)02546-5
    日期:1999.2
    9,10-Dicyanoanth racene-sen sitized irradiation of 7,8-di silabicyclo[2.2.2]octa-2,5-dienes 1 – 3 in the presence of MeOH resulted in the formation of dimethoxydisilanes and the corresponding aromatic compounds. A stepwise mechanism involving CSi bond cleavage by MeOH is proposed.
    在MeOH存在下,对7,8-二双环[2.2.2] octa-2,5-二烯1-3进行9,10-二氰基蒽消旋-辐射,导致形成二甲氧基乙硅烷和相应的芳族化合物。提出了一种由MeOH裂解CSi键的逐步机理。
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