六甲氧基二硅氧烷 | 4371-91-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 六甲氧基二硅氧烷
• 中文别名: 六甲基二正硅酸盐；二原硅酸六甲酯
• 英文名称: hexamethoxydisiloxane
• 英文别名: Hexakis(methoxy)-disiloxan；hexamethoxy disiloxane；hexamethyl diorthosilicate；HMDS；hexamethoxy-disiloxane；disilicic acid hexamethyl ester；trimethyl trimethoxysilyl silicate
• CAS: 4371-91-9
• 化学式: C₆H₁₈O₇Si₂
• 分子量: 258.376
• InChiKey: XOAJIYVOSJHEQB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  73 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  1.1222 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.25
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  64.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 海关编码：
  2920909090
• 储存条件：
  存放于惰性气体中，并避免接触湿气（以免发生分解）。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  六甲氧基二硅氧烷 在 四氯化硅 、 三乙胺 作用下， 160.0 ℃ 、160.0 kPa 条件下， 生成 Dichlor-tetramethoxy-disiloxan
  参考文献：
  名称：

  US2023/406822

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  正硅酸甲酯 在 H₂O 、 CH₃OH 作用下， 生成 六甲氧基二硅氧烷
  参考文献：
  名称：

  Friedel, C.; Crafts, J. M., Annales de Chimie et de Physique, 1866, vol. 9, p. 5 - 51

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  lithium tetrafluoroborate 、 草酸 在 六甲氧基二硅氧烷 作用下， 反应 3.0h， 生成 二氟草酸硼酸锂
  参考文献：
  名称：

  一种一锅法合成二氟草酸硼酸锂的方法

  摘要：

  本发明公开了一种一锅法合成二氟草酸硼酸锂的方法，其特征在于，包括以下步骤：1）四氟硼酸锂的制备：以氟化锂和三氟化硼反应制备四氟硼酸锂；2）二氟草酸硼酸锂粗品的制备：所得的四氟硼酸锂与草酸反应，反应后得到二氟草酸硼酸锂粗品；3）电子级二氟草酸硼酸锂的制备：以二氟草酸硼酸锂粗品为原料通过有机溶剂重结晶，洗涤、干燥后得到电子级二氟草酸硼酸锂。本发明的有益效果为：通过本发明方法得到的晶体品质更高，含量大于99.8%，且无硫酸根离子存在。

  公开号：

  CN109232628B

文献信息

• Nonhydrolytic Synthesis of Branched Alkoxysiloxane Oligomers Si[OSiH(OR)2]4 (R=Me, Et)
  作者：Ryutaro Wakabayashi、Kazufumi Kawahara、Kazuyuki Kuroda

  DOI：10.1002/anie.201001640

  日期：——

  Beyond silanol: A branched siloxane oligomer bearing terminal dialkoxysilyl groups was nonhydrolytically synthesized by direct alkoxysilylation of a tetraalkoxysilane with a chlorodialkoxysilane in the presence of the Lewis acid BiCl3 (see scheme). The reaction proceeds without the formation of intermediate silanol groups, and provides a selective route for siloxane‐based oligomers.

  除硅烷醇外：在路易斯酸BiCl 3存在下，通过四烷氧基硅烷与氯二烷氧基硅烷的直接烷氧基甲硅烷基化反应，非水解合成带有末端二烷氧基甲硅烷基的支链硅氧烷低聚物。反应进行时不会形成中间硅烷醇基团，并为基于硅氧烷的低聚物提供了选择途径。
• Reaction of silicon with alcohols in autoclave
  作者：I. V. Krylova、M. P. Egorov、O. M. Nefedov

  DOI：10.1007/s11172-017-1726-7

  日期：2017.2

  A reaction of activated silicon with alcohols in an autoclave at 240—270 °C was studied. It was found that primary alcohols form tetraalkoxysilanes Si(OR)4 with high selectivity (up to 97%), while the secondary PriOH gave a mixture of compounds HSi(OPri)3, Si(OPri)4, HSi(OPri)2OSi(OPri)2H, HSi(OPri)2OSi(OPri)3, and Si(OPri)3OSi(OPri)3 with the predominance of trialkoxysilane (up to 67%). Carrying out

  研究了活性硅与醇在 240-270 °C 的高压釜中的反应。发现伯醇以高选择性（高达 97%）形成四烷氧基硅烷 Si(OR)4，而仲 PriOH 生成化合物 HSi(OPri)3、Si(OPri)4、HSi(OPri)2OSi( OPr)2H、HSi(OPri)2OSi(OPri)3 和 Si(OPri)3OSi(OPri)3，主要是三烷氧基硅烷（高达 67%）。在指定条件下进行反应具有实验简单、试剂易得、硅转化率高、产物分离收率好等优点。
• Practical Conversion of Chlorosilanes into Alkoxysilanes without Generating HCl
  作者：Ryutaro Wakabayashi、Yasushi Sugiura、Toshimichi Shibue、Kazuyuki Kuroda

  DOI：10.1002/anie.201104948

  日期：2011.11.4

  Alcohol‐free: A versatile, efficient, and practical synthesis of alkoxysilanes without generation of HCl involves the reaction of chlorosilanes with unsymmetrical ethers in the presence of a Lewis acid (see scheme). The reaction proceeds through selective cleavage of CO bonds and is superior to conventional processes. Industrially feasible reagents are used and only one by‐product results.

  无酒精：在不产生HCl的情况下，通用，高效且实用的烷氧基硅烷合成涉及在路易斯酸存在下，氯硅烷与不对称醚的反应（参见方案）。该反应以C选择性裂解 O键和优于常规方法。使用了工业上可行的试剂，仅产生一种副产物。
• Composition for forming a silicon-containing resist under layer film and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US09312144B2

  公开（公告）日：2016-04-12

  A composition for forming a silicon-containing resist under layer film includes a silicon-containing compound which is obtained by hydrolysis, condensation or hydrolysis-condensation of a second silicon compound containing one or more compounds represented by the following general formula (1), wherein R represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, Ra, Rb and Rc each represents a substituted or unsubstituted monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms, w=0 or 1, x=0, 1, 2 or 3, y=0, 1 or 2, z=0, 1, 2 or 3; when w=0, 5≧x+z≧1, and the case where (x, z)=(1, 1), (3, 0) or (0, 3) are not included; and when w=1, 7≧x+y+z≧1, and the case where (x, y, z)=(1, 1, 1) is not included. The composition forms a resist under layer film with extremely less number of coating defects, and excellent adhesiveness in fine pattern and etching selectivity.

  形成含硅抗蚀底层膜的组合物包括通过水解、缩聚或水解-缩聚获得的含硅化合物，该含硅化合物包含一个或多个由以下通式（1）表示的化合物，其中R代表具有1至6个碳原子的有机基，Ra、Rb和Rc分别代表具有1至30个碳原子的取代或未取代的一价有机基，w=0或1，x=0、1、2或3，y=0、1或2，z=0、1、2或3；当w=0时，5≥x+z≥1，并且不包括（x，z）=（1，1）、（3，0）或（0，3）的情况；当w=1时，7≥x+y+z≥1，并且不包括（x，y，z）=（1，1，1）的情况。该组合物形成抗蚀底层膜，具有极少的涂覆缺陷，并具有在细微图案中的优异粘附性和刻蚀选择性。
• High-temperature reaction of SiO2 with methanol: Nucleophilic assistance of some N-unsubstituted benzazoles
  作者：Andrey M. Chibiryaev、Ivan V. Kozhevnikov、Oleg N. Martyanov

  DOI：10.1016/j.apcata.2013.03.001

  日期：2013.4

  silica gel for 5 h of the reaction. The main products of the reaction are methyl orthosilicates, mainly tetramethyl orthosilicate. N-Unsubstituted 1H-indole, 1H-benzimidazole, and 1H-indazole additives considerably increase the amount of reacted SiO2-containing material. Noteworthy, quartz sand “solubility” is increased ca 14-fold when indole is used at the same reaction conditions. These benzazoles

  含SiO 2的材料（石英，派热克斯玻璃，硅胶和HY沸石）在350°C的超临界和气相条件下与甲醇缓慢反应。与超临界甲醇反应的SiO 2的量取决于材料的种类，并且在反应5小时内，石英砂的含量为0.05 wt％，宽孔硅胶的含量为4.0 wt％。该反应的主要产物是原硅酸甲酯，主要是原硅酸四甲酯。N-未取代的1 H-吲哚，1 H-苯并咪唑和1 H-吲唑添加剂显着增加了反应的含SiO 2的材料的量。值得注意的是，石英砂“溶解度”增加CA在相同的反应条件下使用吲哚时，其含量是其的14倍。这些苯唑为SiO 2和甲醇之间的反应提供亲核助剂。在辅助期间，唑环被甲醇甲基化，并且SiO 2-表面或原硅酸四甲酯分子的参与促进了所使用的苯并唑的烷基化反应。