potassium sec-butoxide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: potassium sec-butoxide
• 英文别名: potassium 2-butoxide；Potassium 1-methylpropoxide；potassium;butan-2-olate
• 化学式: C₄H₉O*K
• 分子量: 112.213
• InChiKey: ZUPDNLCLXSWMAE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.85
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  23.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ge(CH{(CH3)CN-2,6-iPr2C6H3}2)Cl 、 potassium sec-butoxide 以 四氢呋喃 为溶剂， 以81%的产率得到(S)-2-((R)-sec-butoxy)-1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)-4,6-dimethyl-2,3-dihydro-1,3,2-diazagermin-1-ium
  参考文献：
  名称：

  二价锗烷氧化物配合物的反应性与较重的锡和铅类似物形成鲜明对比

  摘要：

  β-二酮化锗醇盐配合物的化学性质已得到检查，并显示出与较重的同类物形成鲜明对比。例如，（BDI）GeOR（BDI = [{N（2,6- i Pr 2 C 6 H 3）C（Me）} 2 CH]，R = i Pr，s Bu，tBu）不与二氧化碳反应形成金属碳酸盐络合物。脂族亲电试剂（例如碘甲烷或三氟甲磺酸甲酯）的添加导致锗的净氧化加成，得到阳离子四价锗配合物，[（BDI）Ge（Me）OR] [X]（X = I，OTf）。醇盐配体和锗贷款对与路易斯酸的对比反应性的检查，产生不寻常的锗（II） -铜（I）加合物，{μ 2 -Cu 2我2 } [（BDI）的GeO吨卜] 2。该络合物不仅显示了一个罕见的二价Ge–Cu键的例子，而且是第一个使用平面Cu 2 I 2的例子。 金刚石芯具有与另一个金属中心相连的三坐标铜。

  DOI：

  10.1021/ic201841m
• 作为试剂：
  描述：

  2,3-二氢苯并呋喃-5-甲醛 、 丁烷-2-基2-氯乙酸酯 在 potassium sec-butoxide 、 氢氧化钾 、 水 作用下， 以 仲丁醇 为溶剂， 反应 3.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  WO2007/76157

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Effect of Alkyl Group Size on the Mechanism of Acid Hydrolyses of Benzaldehyde Acetals
  作者：Alexanders T. N. Belarmino、Sandro Froehner、Dino Zanette、João P. S. Farah、Clifford A. Bunton、Laurence S. Romsted

  DOI：10.1021/jo0202987

  日期：2003.2.1

  tertiary acetals, and plots of log k(H) for the H(3)O(+)-catalyzed reaction, (13)C and (1)H chemical shifts, and (1)J(CH) coupling constants against the Charton steric parameter, nu, for alkoxy groups are linear. The second-order rate constant, k(H), increases about 100-fold on going from R = Me to R = t-amyl, indicating the significant role of steric effects on reactivity. Steric effects upon (13)C

  当R =甲基，正丁基，但带有仲和叔烷基衍生物，R =异丙基，仲丁基，叔丁基，苯甲醛缩醛PhCH（OR）（2）的水解反应是特定的氢离子催化。叔戊基水解是一般酸催化的。仲和叔烷基的布朗斯泰德α值均在以下范围内：α= 0.57-0.61。开发了一种简单的迭代程序来估算琥珀酸缓冲液的二酸和一酸形式的一般酸催化的各个速率常数。对于仲和叔缩醛，log k（obs）（在[buffer] = 0 M处）相对于pH的图是线性的，对于H（3）O（+）催化的反应，log k（H）的图则是（对于烷氧基而言，13）C和（1）H化学位移以及（1）J（CH）相对于Charton空间参数nu的耦合常数是线性的。二阶速率常数k（H），从R = Me到R =叔戊基时，其增加约100倍，表明空间效应对反应性的重要作用。对（13）C NMR化学位移和偶联常数的立体效应表明，增加烷氧基部分的体积会增加碳反应中心处的电子密度，从而加
• Activation of Carbon Dioxide by Divalent Tin Alkoxides Complexes
  作者：Lorenzo Ferro、Peter B. Hitchcock、Martyn P. Coles、Hazel Cox、J. Robin Fulton

  DOI：10.1021/ic102273n

  日期：2011.3.7

  activated aliphatic electrophiles such as methyl triflate, but reacts reversibly with carbon dioxide. Both the rate of reaction and the degree of reversibility is dependent upon minor changes in the alkoxide ligand, with the bulkier tert-butoxide ligand displaying slower reactivity than the corresponding isopropyl ligand, although the latter system is a more exergonic reaction. Density Function Theory

  利用庞大的β-二酮基配体[N（2,6- i Pr 2 C 6 H 3）-C（Me）} 2 CH]（BDI）合成了一系列末端锡（II）醇盐。已经检查了这些醇盐的亲核性，并观察到了意外的趋势。例如，（BDI）SnOR仅与高度活化的脂族亲电子试剂（例如三氟甲磺酸甲酯）反应，但与二氧化碳可逆地反应。两个反应的速率和可逆性的程度取决于在醇盐配体的微小变化，与笨重叔-丁氧基配体显示出比相应的异丙基配体慢的反应性，尽管后者系统是更强的能动反应。密度函数理论（DFT）计算表明，二氧化碳插入的可逆性差异可以归因于锡醇盐的基态能量差异，而反应速率归因于Sn-O键的相对键强度。讨论了二氧化碳插入的机理。
• 유기금속 화합물, 이를 포함하는 전구체 조성물, 및 이를 이용한 박막의 제조방법
  申请人：주식회사 한솔케미칼

  公开号：KR20220014653A

  公开（公告）日：2022-02-07

  본 발명은 기상 증착을 통하여 박막 증착이 가능한 기상 증착 화합물에 관한 것으로, 구체적으로는 원자층 증착법 (Atomic Layer Deposition, ALD) 또는 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition, CVD)에 적용 가능하고, 반응성, 휘발성 및 열적 안정성이 우수한 유기금속 함유 화합물, 상기 유기금속 화합물을 포함하는 전구체 조성물, 상기 전구체 조성물을 이용한 박막의 제조방법, 및 상기 전구체 조성물로 제조된 유기금속 함유 박막에 관한 것이다.

  本发明涉及一种通过气相沉积实现薄膜沉积的气相沉积化合物，具体而言，适用于原子层沉积法（Atomic Layer Deposition, ALD）或化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition, CVD），具有优异的反应性、挥发性和热稳定性的有机金属含有化合物，包括上述有机金属化合物的前体组合物，以及利用上述前体组合物制备薄膜的方法和由上述前体组合物制备的有机金属含有薄膜。
• [EN] COBALT COMPOUND, PRECURSOR COMPOSITION INCLUDING SAME, AND METHOD FOR PREPARING THIN FILM USING SAME<br/>[FR] COMPOSÉ DE COBALT, COMPOSITION DE PRÉCURSEUR LE CONTENANT ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE COUCHE MINCE L'UTILISANT<br/>[KO] 코발트 화합물, 이를 포함하는 전구체 조성물, 및 이를 이용한 박막의 제조방법
  申请人：HANSOL CHEMICAL CO LTD

  公开号：WO2022025332A1

  公开（公告）日：2022-02-03

  본 발명은 기상 증착을 통하여 박막 증착이 가능한 기상 증착 화합물에 관한 것으로, 구체적으로는 원자층 증착법 (Atomic Layer Deposition, ALD) 또는 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition, CVD)에 적용가능하고, 반응성, 휘발성 및 열적 안정성이 우수한 신규 코발트 함유 화합물, 상기 코발트 화합물을 포함하는 전구체 조성물, 상기 전구체 조성물을 이용한 박막의 제조방법, 및 상기 전구체 조성물로 제조된 코발트-함유 박막에 관한 것이다.

  这项发明涉及一种可以通过气相沉积来制备薄膜的气相沉积化合物，具体来说，可以应用于原子层沉积法（ALD）或化学气相沉积法（CVD），包括反应性、挥发性和热稳定性优异的新型钴含有化合物，包括含有上述钴化合物的前体配方，使用上述前体配方制备薄膜的方法，以及制备的含有钴的薄膜。
• Synthèse d'éthers par utilisation d'alcoolate à cation crypté
  作者：J.F. Biellmann、H. D'Orchymont、M.P. Goeldner

  DOI：10.1016/s0040-4039(01)86545-x

  日期：1979.1