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(2-t-butyl-5,5-difluoro-6-hydroxy-4-methyl-6-trifluoromethyl-1,3-dioxan-4-yl)methyl methacrylate

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(2-t-butyl-5,5-difluoro-6-hydroxy-4-methyl-6-trifluoromethyl-1,3-dioxan-4-yl)methyl methacrylate
英文别名
[2-Tert-butyl-5,5-difluoro-6-hydroxy-4-methyl-6-(trifluoromethyl)-1,3-dioxan-4-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate
(2-t-butyl-5,5-difluoro-6-hydroxy-4-methyl-6-trifluoromethyl-1,3-dioxan-4-yl)methyl methacrylate化学式
CAS
——
化学式
C15H21F5O5
mdl
——
分子量
376.321
InChiKey
MPCBVVKJYVQBBK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.8
  • 重原子数:
    25
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.8
  • 拓扑面积:
    65
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    10

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2-methyl-3,3,5,5,5-pentafluoro-2,4,4-trihydroxypentyl methacrylate特戊醛 在 cation-exchange resin (sulfonic acid type) 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 48.0h, 以65%的产率得到(2-t-butyl-5,5-difluoro-6-hydroxy-4-methyl-6-trifluoromethyl-1,3-dioxan-4-yl)methyl methacrylate
    参考文献:
    名称:
    Fluorinated monomer having cyclic structure, manufacturing method, polymer, photoresist composition and patterning process
    摘要:
    公开号:
    EP1652844B1
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文献信息

  • Fluorinated monomer having cyclic structure, manufaturing method, polymer, photoresist composition and patterning process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2075247A1
    公开(公告)日:2009-07-01
    Fluorinated monomers having a cyclic structure represented by the general formula (3) or (4): wherein R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, R13, and R14 are each independently selected from among hydrogen, hydroxyl, halogen, and straight, branched or cyclic monovalent organic group of 1 to 15 carbon atoms, at least one of R5, R6, R7, R8, R9, and R10 and at least one of R11, R12, R13 and R14 is a monovalent organic group containing a polymerizable unsaturated group, a combination of any, at least two of R5, R6, R7, R8, R9, and R10 and a combination of any, at least two of R11, R12, R13 and R14 may bond together to form a ring with the carbon atom or atoms to which they are attached, the ring contains a polymerizable unsaturated group unless the remaining group or groups which do not relate to the ring formation contain a polymerizable unsaturated group, are useful to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions which are fully transparent to radiation having a wavelength of up to 300 nm and have improved development properties.
    具有通式 (3) 或 (4) 所代表的环状结构的含单体: 其中 R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13 和 R14 各自独立地选自氢、羟基、卤素和 1 至 15 个碳原子的直链、支链或环状一价有机基团,R5、R6、R7、R8、R9 和 R10 中的至少一个以及 R11、R12、R13 和 R14 中的至少一个是含有 1 至 15 个碳原子的一价有机基团、和 R10 中的至少一个,以及 R11、R12、R13 和 R14 中的至少一个是含有可聚合不饱和基团的一价有机基团,R5、R6、R7、R8、R9 和 R10 中的至少两个的任意组合,以及 R11、R12、R13 和 R14 中的至少两个的任意组合、R13 和 R14 可键合在一起,与它们所连接的碳原子形成环,该环含有可聚合的不饱和基团,除非与形成环无关的其余一个或多个基团含有可聚合的不饱和基团。
  • FLUORINATED MONOMER OF CYCLIC ACETAL STRUCTURE, POLYMER, RESIST PROTECTIVE COATING COMPOSITION, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:WATANABE Takeru
    公开号:US20100112482A1
    公开(公告)日:2010-05-06
    A fluorinated monomer of cyclic acetal structure has formula (1) wherein R is a C 1 -C 20 alkyl group which may be substituted with halogen or separated by oxygen or carbonyl, and Z is a divalent organic group which forms a ring with alkylenoxy and contains a polymerizable unsaturated group. A polymer derived from the fluorinated monomer may be endowed with appropriate water repellency, water sliding property, lipophilicity, acid lability and hydrolyzability and is useful in formulating a protective coating composition and a resist composition.
  • US7531289B2
    申请人:——
    公开号:US7531289B2
    公开(公告)日:2009-05-12
  • US8431323B2
    申请人:——
    公开号:US8431323B2
    公开(公告)日:2013-04-30
  • US8933251B2
    申请人:——
    公开号:US8933251B2
    公开(公告)日:2015-01-13
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