1-Adamantyl-ethylcarbonat

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机碳酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Adamantyl-ethylcarbonat
• 英文别名: 2-Adamantyl ethyl carbonate
• 化学式: C₁₃H₂₀O₃
• 分子量: 224.3
• InChiKey: OJUOZSHSIXJZAO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙醇 、 2-adamantyl fluoroformate 以 水 为溶剂， 生成 2-金刚烷醇 、 1-Adamantyl-ethylcarbonat
  参考文献：
  名称：

  在溶剂分解条件下用氟甲酸2-金刚烷基酯进行速率和产物研究

  摘要：

  氟甲酸2-金刚烷基酯的溶剂分解比速率已在25.0°C下于20种纯净和二元溶剂中测量。使用扩展的Grunwald-Winstein方程，并结合了N T溶剂的亲核标度和Y Cl溶剂的电离能标度，可以很好地将它们关联起来。对 溶剂亲核性和溶剂电离能力以及k F / k Cl变化的敏感性（l  = 2.15±0.17和m = 0.95±0.07）该值与先前观察到的氟甲酸正辛酯溶剂解的值非常相似，这与决定速率的加成消除途径的加成步骤相一致。对于乙醇水溶液，产物比率的测量允许确定选择性值（S）。将结果与早先报道的氯甲酸2-金刚烷基酯的结果进行比较，并得出机理结论。版权所有©2007 John Wiley＆Sons，Ltd.

  DOI：

  10.1002/poc.1194

文献信息

• MOLECULAR GLASS PHOTORESISTS CONTAINING BISPHENOL A FRAMEWORK AND METHOD FOR PREPARING THE SAME AND USE THEREOF
  申请人：Yang Guoqiang

  公开号：US20150037735A1

  公开（公告）日：2015-02-05

  The present invention provides a class of molecular glass photoresist (I and II) comprising bisphenol A as a main structure and their preparation. The molecular glass photoresist is formulated with a photoacid generator, a cross-linking agent, a photoresist solvent, and other additives into a positive or negative photoresist. A photoresist with a uniform thickness is formed on a silicon wafer by spin-coating. The photoresist formulation can be used in modern lithography, such as 248 nm photolithography, 193 nm photolithography, extreme-ultraviolet (EUV) lithography, nanoimprint lithography, electron beam lithography, and particularly in the EUV-lithography technique.

  本发明提供了一类分子玻璃光刻胶（I和II），其主要结构包括双酚A，并提供了它们的制备方法。该分子玻璃光刻胶由光酸发生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂配制而成，可制备成正向或负向光刻胶。通过旋涂在硅片上形成均匀厚度的光刻胶。该光刻胶配方可用于现代光刻技术，如248纳米光刻、193纳米光刻、极紫外（EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻，特别是EUV光刻技术中。
• US9454076B2
  申请人：——

  公开号：US9454076B2

  公开（公告）日：2016-09-27