测量了
氯原子与(CH 3)3 SiOSi(CH 3)3,(CH 3)2 HSiOSiH(CH 3)2和(CH 3)H 2 SiOSiH 2(CH 3)反应的绝对速率常数。使用分子流系统中的超低压反应器(VLPR),在273–363 K的温度范围内以气相形式存在。绝对速率常数与温度无关,取值(in ,2σ不确定度):,且k 3 =(2.42±0.25)×10 -10。所有标题反应都是通过C–H和/或Si–H氢的提取进行的,从而导致HCl的形成。结果表明,Si-H键对Cl原子攻击的反应性高于C-H键的反应性。