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2,7-双-(甲基硫代)萘 | 10075-78-2

中文名称
2,7-双-(甲基硫代)萘
中文别名
——
英文名称
2,7-Bis-methyl-thio-naphthalin
英文别名
2,7-Bis-methylmercapto-naphthalin;2,7-Bis-(methylthio)naphthalene;2,7-bis(methylsulfanyl)naphthalene
2,7-双-(甲基硫代)萘化学式
CAS
10075-78-2
化学式
C12H12S2
mdl
——
分子量
220.359
InChiKey
SHZPAHLHBNVKJI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    375.8±15.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.19±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.2
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.17
  • 拓扑面积:
    50.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 危险等级:
    IRRITANT
  • 危险品标志:
    Xi
  • 海关编码:
    2930909090
  • 危险类别:
    IRRITANT

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • [EN] PHOTOACID GENERATOR AND PHOTOLITHOGRAPHIC RESIN COMPOSITION<br/>[FR] GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOLITHOGRAPHIQUE<br/>[JA] 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
    申请人:SAN APRO LTD
    公开号:WO2019216174A1
    公开(公告)日:2019-11-14
    高精細なi線用フォトリソグラフィーレジスト材料に要求される相溶性、高感度、熱安定性、耐塩基性のすべての特性を併せ持つナフタルイミド構造を有する非イオン系光酸発生剤の提供にある。本発明は、一般式(1)で表されることを特徴とする非イオン系光酸発生剤(A);及び該非イオン系光酸発生剤(A)を含むフォトリソグラフィー用樹脂組成物(Q)である。 [式(1)中、R1は炭素数1~12の炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニロキシ基またはアルキルカーボネート基であり、R2~R6のうち一つは炭素数1~12の炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニロキシ基またはアルキルカーボネート基で、残りは水素原子であり、Rfはフッ素原子、または少なくとも一つ以上の水素がフッ素で置換された炭素数1~18の炭化水素基である。]
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