(n-butyldimethylsilyl)trimethylstannane | 103731-29-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机过渡后金属化合物
• 英文名称: (n-butyldimethylsilyl)trimethylstannane
• CAS: 103731-29-9
• 化学式: C₉H₂₄SiSn
• 分子量: 279.085
• InChiKey: VMPWKRWEAAWHRD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  101-103 °C (2 mmHg)
• 稳定性/保质期：
  遵照规定使用和储存，则不会发生分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.91
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 危险品标志：
  T+,N-T+,N
• 危险类别码：
  R50/53
• 海关编码：
  29310099
• 安全说明：
  S61

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (n-butyldimethylsilyl)trimethylstannane 、 5-氯戊炔 、 四(三苯基膦)钯 以87%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  CHENARD B. L.; VAN ZYL C. M., J. ORG. CHEM., 51,(1986) N 19, 3561-3566

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  (trimethylstannyl)lithium 、 叔丁基三甲基氯硅烷 以 四氢呋喃 为溶剂， 以20%的产率得到(n-butyldimethylsilyl)trimethylstannane
  参考文献：
  名称：

  schweren carben-analogen的化学反应，R 2 M，M = Si，Ge，Sn：X。7-sila-norbornadiene：在有机金属中的卤素和热分解反应

  摘要：

  7-sila降冰片二烯（I–IV）在-20至+ 20°C下与卤素迅速反应，生成Me 2 SiHal 2（Hal = Cl，Br，I）和萘或苯衍生物（V–VIII）。然而，在0°C的CCl 4中，溴导致I产生令人惊讶的重排，生成2-溴硅烷化的萘（IX），因为似乎最好攻击烯烃基团。IX的甲基化和甲氧基化分别得到X和XI。IX的仔细水解产生了二硅氧烷VII。在160–200°C时未观察到将Me 2 Si插入SiHal，SiH，SiC或SnC键中，而通过一个单键平稳地插入了SnCl或SnH键中。步机制。卤素是从产生Me 2 SiHal的不同CHal键中提取的2有时是我4 Si 2 Hal 2。在这些情况下，亚甲硅烷基前体的降解始终是一阶的，并且类似于自发热解的降解。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(86)80389-8

文献信息

• CHENARD B. L.; VAN ZYL C. M., J. ORG. CHEM., 51,(1986) N 19, 3561-3566
  作者：CHENARD B. L.、 VAN ZYL C. M.

  DOI：——

  日期：——
• Die chemie der schweren carben-analogen R2M, M = Si, Ge, Sn
  作者：Hubertus Appler、Wilhelm P. Neumann

  DOI：10.1016/0022-328x(86)80389-8

  日期：1986.10

  The 7-sila norbornadienes (I–IV) react rapidly with halogens at −20 to +20°C to yield Me2SiHal2 (Hal = Cl, Br, I) and the naphthalene or benzene derivatives (V–VIII). Bromine in CCl4 at 0°C, however, caused surprising rearrangement in I giving the 2-bromosilylated naphthalene (IX), since an attack at the alkene group seemed to be preferred. Methylation and methoxylation of IX gave respectively X and

  7-sila降冰片二烯（I–IV）在-20至+ 20°C下与卤素迅速反应，生成Me 2 SiHal 2（Hal = Cl，Br，I）和萘或苯衍生物（V–VIII）。然而，在0°C的CCl 4中，溴导致I产生令人惊讶的重排，生成2-溴硅烷化的萘（IX），因为似乎最好攻击烯烃基团。IX的甲基化和甲氧基化分别得到X和XI。IX的仔细水解产生了二硅氧烷VII。在160–200°C时未观察到将Me 2 Si插入SiHal，SiH，SiC或SnC键中，而通过一个单键平稳地插入了SnCl或SnH键中。步机制。卤素是从产生Me 2 SiHal的不同CHal键中提取的2有时是我4 Si 2 Hal 2。在这些情况下，亚甲硅烷基前体的降解始终是一阶的，并且类似于自发热解的降解。