1,3-bis(dimethylamino)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,3-bis(dimethylamino)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane
• 英文别名: N-[[dimethylamino(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]-N-methylmethanamine
• 化学式: C₈H₂₄N₂OSi₂
• 分子量: 220.462
• InChiKey: WMWHOSGBVZQCEH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.53
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  15.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3-二氯-1,1,3,3,-四甲基二硅氧烷 、 二甲胺 在 三甲胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 生成 1,3-bis(dimethylamino)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane
  参考文献：
  名称：

  Compositions and Methods for the Deposition of Silicon Oxide Films

  摘要：

  本文描述了形成硅氧化物薄膜的组合物和方法。在一个方面，该膜是从至少一种硅前体化合物沉积而成，其中至少一种硅前体化合物选自以下A和B式：如本文所定义。

  公开号：

  US20180127592A1

文献信息

• Compositions and Methods for the Deposition of Silicon Oxide Films
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：US20180127592A1

  公开（公告）日：2018-05-10

  Described herein are compositions and methods for forming silicon oxide films. In one aspect, the film is deposited from at least one silicon precursor compound, wherein the at least one silicon precursor compound is selected from the following Formulae A and B: as defined herein.

  本文描述了形成硅氧化物薄膜的组合物和方法。在一个方面，该膜是从至少一种硅前体化合物沉积而成，其中至少一种硅前体化合物选自以下A和B式：如本文所定义。