L'invention se rapporte à une composition cosmétique de nettoyage contenant dans un milieu aqueux, (1) au moins un tensioactif anionique choisi parmi les acides alkyl glycol carboxyliques et leurs sels, et (2) au moins un composé de formule (I) suivante :
dans laquelle :
R1, R2, R3 et R4 représentent chacun, indépendamment l'un de l'autre, un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1-C4 ou un groupe hydroxyalkyle en C2-C6 pouvant contenir de 1 à 5 groupes hydroxyles, où au moins un des radicaux R1 à R4 représente un groupe hydroxyalkyle,
ainsi que leurs sels, leurs solvats, et leurs isomères.
Le composé de formule (I) est de préférence l'hydroxyéthylurée.
L'invention se rapporte aussi à l'utilisation de la dite composition comme produit de nettoyage et/ou de démaquillage de la peau, comme produit de douche, comme shampoing ou après-shampoing, comme produit de rasage, comme produit exfoliant.
本发明涉及一种化妆品清洁组合物,该组合物在
水介质中含有:(1) 至少一种阴离子表面活性剂,该表面活性剂选自烷基
乙醇羧酸及其盐;(2) 至少一种下式 (I) 化合物:
其中 :
R1、R2、R3 和 R4 各自独立地代表一个氢原子、一个 C1-C4 烷基或一个 C2-C6 羟烷基(可含有 1 至 5 个羟基),其中 R1 至 R4 自由基中至少有一个代表羟烷基、
以及它们的盐、它们的溶解物和它们的异构体。
式(I)化合物最好是羟乙基
脲。
本发明还涉及上述组合物作为皮肤清洁和/或卸妆产品、淋浴产品、洗发
水或护发素、剃须产品、去角质产品的用途。