Hexyl-triisopropyl-silane | 121675-58-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Hexyl-triisopropyl-silane
• 英文别名: Hexyl-tri(propan-2-yl)silane
• CAS: 121675-58-9
• 化学式: C₁₅H₃₄Si
• 分子量: 242.52
• InChiKey: ICPRXLMAGCCISL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.25
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三异丙基氯硅烷 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 Hexyl-triisopropyl-silane
  参考文献：
  名称：

  1- and 2-(trialkylsilyl)ethanols: new silyl reagents from tin, lithium, and boron chemistry

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00278a014

文献信息

• Olefin Isomerization and Hydrosilylation Catalysis by Lewis Acidic Organofluorophosphonium Salts
  作者：Manuel Pérez、Lindsay J. Hounjet、Christopher B. Caputo、Roman Dobrovetsky、Douglas W. Stephan

  DOI：10.1021/ja410379x

  日期：2013.12.11

  = 0, 1) exhibit Lewis acidity derived from a low-lying σ* orbital at P opposite F. This acidity is evidenced by the reactions of these salts with olefins, which catalyze the rapid isomerization of 1-hexene to 2-hexene, the cationic polymerization of isobutylene, and the Friedel-Crafts-type dimerization of 1,1-diphenylethylene. In the presence of hydrosilanes, olefins and alkynes undergo efficient hydrosilylation

  式 [(C6F5)(3-x)Ph(x)PF][B(C6F5)4] (x = 0, 1) 的有机氟鏻盐表现出路易斯酸性，源自低位 σ* 轨道在 P 与 F 相对这种酸性通过这些盐与烯烃的反应得到证明，烯烃催化 1-己烯快速异构化为 2-己烯、异丁烯的阳离子聚合以及 1,1-二苯基乙烯的 Friedel-Crafts 型二聚反应。在氢硅烷的存在下，烯烃和炔烃发生有效的氢化硅烷化催化作用，生成烷基硅烷。该机制的实验和计算考虑与氢硅烷在不饱和 CC 键上的顺序活化和 1,2-加成一致。
• Ga⁺-catalyzed hydrosilylation? About the surprising system Ga⁺/HSiR₃/olefin, proof of oxidation with subvalent Ga⁺ and silylium catalysis with perfluoroalkoxyaluminate anions
  作者：Antoine Barthélemy、Kim Glootz、Harald Scherer、Annaleah Hanske、Ingo Krossing

  DOI：10.1039/d1sc05331k

  日期：——

  Already 1 mol% of subvalent [Ga(PhF)2]+[pf]− ([pf]− = [Al(ORF)4]−, RF = C(CF3)3) initiates the hydrosilylation of olefinic double bonds under mild conditions. Reactions with HSiMe3 and HSiEt3 as substrates efficiently yield anti-Markovnikov and anti-addition products, while bulkier substrates such as HSiiPr3 are less reactive. Investigating the underlying mechanism by gas chromatography and STEM analysis

  已经有 1 mol% 的亚价 [Ga(PhF) 2 ] + [ pf ] − ([ pf ] − = [Al(OR F ) 4 ] − , R F = C(CF 3 ) 3 ) 引发烯双氢硅烷化温和条件下的债券。以HSiMe 3和HSiEt 3作为底物的反应有效地产生抗马可夫尼科夫和反加成产物，而较大的底物如HSi i Pr 3的反应性较低。通过气相色谱和STEM分析研究其潜在机制，我们意外地发现H 2和金属Ga 0形成。在不添加烯烃的情况下，观察到形成 R 3 Si–F–Al(OR F ) 3 （R = 烷基），这是在小硅离子存在下[ pf ] -阴离子的典型降解产物。电化学分析表明， E 1/2 (Ga + /Ga 0 ; o DFB) = +0.26–的弱配位、极性邻二氟苯中的一价 [Ga(PhF) 2 ] + [ pf ] −具有令人惊讶的高氧化电位。 0.37 V vs. Fc +
• SODERQUIST, JOHN A.;RIVERA, ISAAC;NEGRON, ALVIN, J. ORG. CHEM., 54,(1989) N7, C. 4051-4055
  作者：SODERQUIST, JOHN A.、RIVERA, ISAAC、NEGRON, ALVIN

  DOI：——

  日期：——
• 1- and 2-(trialkylsilyl)ethanols: new silyl reagents from tin, lithium, and boron chemistry
  作者：John A. Soderquist、Isaac Rivera、Alvin Negron

  DOI：10.1021/jo00278a014

  日期：1989.8