1,2-bis-(2-piperidino-ethoxy)-ethane | 76331-19-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: 1,2-bis-(2-piperidino-ethoxy)-ethane
• 英文别名: 1,2-Bis-(2-piperidino-aethoxy)-aethan；Dipiperydyl-3,6-dioxyoktan；1,1'-[Ethane-1,2-diylbis(oxyethane-2,1-diyl)]dipiperidine；1-[2-[2-(2-piperidin-1-ylethoxy)ethoxy]ethyl]piperidine
• CAS: 76331-19-6
• 化学式: C₁₆H₃₂N₂O₂
• 分子量: 284.442
• InChiKey: XGLKTGPHTYZZSM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  198 °C(Press: 13 Torr)
• 密度：
  0.989±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  24.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,2-bis-(2-piperidino-ethoxy)-ethane 在 氢氟酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以17%的产率得到perfluoro-1,2-bis(2-piperidinoethoxy)ethane
  参考文献：
  名称：

  氨基烷基醚的电化学氟化

  摘要：

  已知在液体HF中三烷基胺的电化学氟化容易以良好的产率发生，而二烷基醚的产率很低。后者的氟化醚因其低温性能而受到关注。我们在这项工作中的目标是制备氟化的氨基烷基醚流体，该流体可以结合胺的良好收率和醚的性能。将几种二烷基胺和亚烷基单元结合在各种二氨基单醚，二氨基二醚和单氨基单醚中。在第一类材料中，电化学氟化产率高达50％。描述了这些新流体的结构-屈服关系和性质。

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)80506-0
• 作为产物：
  描述：

  三乙二醇 在 磷化氢 、 溴 、 苯 作用下， 生成 1,2-bis-(2-piperidino-ethoxy)-ethane
  参考文献：
  名称：

  Khanna; Dhar, Journal Of Scientific and Industrial Research, 1953, vol. 12B, p. 532,533,534

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Shtamburg, V. G.; Skobelev, O. L.; Grinev, V. M., Russian Journal of Organic Chemistry, 1995, vol. 31, # 5, p. 609 - 612
  作者：Shtamburg, V. G.、Skobelev, O. L.、Grinev, V. M.、Dmitrienko, A. D.、Pleshkova, A. P.、Pritykin, L. M.

  DOI：——

  日期：——
• Hazzard et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1953, p. 270,271
  作者：Hazzard et al.

  DOI：——

  日期：——
• A process for the removal of H2S from gaseous mixtures using diaminoethers
  申请人：EXXON RESEARCH AND ENGINEERING COMPANY

  公开号：EP0087856B1

  公开（公告）日：1986-02-26
• Perfluoroaminoethers
  申请人：MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY

  公开号：EP0214852B1

  公开（公告）日：1992-10-28
• RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：Mizutani Kazuyoshi

  公开号：US20110014570A1

  公开（公告）日：2011-01-20

  A resist composition and a pattern forming method using the composition are provided, the resist composition including: (A) a resin that decomposes by an action of an acid to increase a solubility of the resin (A) in an alkali developer; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a compound represented by formula (C1); and (D) a solvent: wherein n represents an integer of 1 to 6; w represents an integer of 1 to 6; p represents an integer of 1 to 6; m represents an integer of 1 to 6; Ra, Rb, Rc and Rd each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, provided that Ra and Rb may combine together to form a ring, and Rc and Rd may combine together to form a ring.