1,3-di(2-methoxycarbonylethyl)-(1H,3H,5H)-1,3,5-triazine-2,4,6-trione | 23900-05-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三嗪类
• 英文名称: 1,3-di(2-methoxycarbonylethyl)-(1H,3H,5H)-1,3,5-triazine-2,4,6-trione
• 英文别名: bis(methoxycarbonylethyl)isocyanurate；3,3'-(2,4,6-trioxo-[1,3,5]triazinane-1,3-diyl)-bis-propionic acid dimethyl ester；Bis-(2-methoxycarbonyl-ethyl)-isocyanurat；Methyl 3-[3-(3-methoxy-3-oxopropyl)-2,4,6-trioxo-1,3,5-triazinan-1-yl]propanoate
• CAS: 23900-05-2
• 化学式: C₁₁H₁₅N₃O₇
• 分子量: 301.256
• InChiKey: HJNRUQVDNNCCHQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.55
• 拓扑面积：
  122
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  monoallyl diglycidyl isocyanurate 、 1,3-di(2-methoxycarbonylethyl)-(1H,3H,5H)-1,3,5-triazine-2,4,6-trione 在 四甲基氯化铵 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 5.0h， 以21 g的产率得到
  参考文献：
  名称：

  신규한 이소시아누레이트 화합물 및 이를 포함하는 반사방지막 조성물

  摘要：

  这项发明涉及用于半导体光刻工艺的防反射涂料组合物，更具体地，涉及一种新的异硅酸酯化合物和包含其的防反射涂料组合物，以提高防反射涂料的折射率。根据本发明，这种新的异硅酸酯化合物是制造用于半导体制造工艺的防反射涂料组合物的核心材料，具有高折射率、快速蚀刻速度和出色的涂覆性能的特点。本发明的防反射涂料具有优异的均匀涂覆性能，即使在存在很大差异的晶圆上也表现出卓越的平坦化特性。

  公开号：

  KR101590608B1
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 二氢-2,4,6-三氧代-1,3,5-三嗪-1,3(2H,4H)-二丙酸 在 盐酸 作用下， 反应 2.0h， 以95%的产率得到1,3-di(2-methoxycarbonylethyl)-(1H,3H,5H)-1,3,5-triazine-2,4,6-trione
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  A single di(azahomo)[60]fullerene isomer was prepared for the first time by the reaction between [60]fullerene and isocyanurato-substituted azide. The structure of the product was established by H-1 and C-13 NMR, UV, and IR spectroscopy.

  DOI：

  10.1023/a:1020967124217

文献信息

• Polymer for organic bottom anti-reflective coating and bottom anti-reflective coatings comprising the same
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US11435667B2

  公开（公告）日：2022-09-06

  Provided are a polymer for an organic bottom anti-reflective coating and a bottom anti-reflective coating composition containing the same. More specifically, provided are a polymer for an organic bottom anti-reflective coating capable of relieving reflection of exposure light and irradiation light on a substrate of a photoresist layer applied on the substrate in a lithographic process of manufacturing a semiconductor device, and a bottom anti-reflective coating composition containing the same.

  本发明提供了一种用于有机底部防反射涂层的聚合物和一种含有该聚合物的底部防反射涂层组合物。更具体地说，本发明提供了一种用于有机底部防反射涂层的聚合物，该聚合物能够缓解在制造半导体器件的光刻工艺中涂敷在基底上的光刻胶层的曝光光和照射光在基底上的反射，还提供了一种含有该聚合物的底部防反射涂层组合物。