1-[(2R,4R,5R)-5-[[bis(4-methoxyphenyl)-phenylmethoxy]methyl]-4-phenylselanyloxolan-2-yl]-5-methylpyrimidine-2,4-dione | 1370642-71-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: 1-[(2R,4R,5R)-5-[[bis(4-methoxyphenyl)-phenylmethoxy]methyl]-4-phenylselanyloxolan-2-yl]-5-methylpyrimidine-2,4-dione
• CAS: 1370642-71-9
• 化学式: C₃₇H₃₆N₂O₆Se
• 分子量: 683.663
• InChiKey: WAOCTBAHIIYPSY-CKOYEXALSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.98
• 重原子数：
  46
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  86.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-[(2R,4R,5R)-5-[[bis(4-methoxyphenyl)-phenylmethoxy]methyl]-4-phenylselanyloxolan-2-yl]-5-methylpyrimidine-2,4-dione 在 水 、 三正丁基氢锡 、 溶剂黄146 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙腈 为溶剂， 反应 1.25h， 生成 2',3'-二脱氧胸苷
  参考文献：
  名称：

  C3'修饰核苷的合成，用于选择性生成C3'-Deoxy-3'-胸苷基自由基：LEE诱导DNA损伤的拟议中间体

  摘要：

  据信由低能电子（LEE）诱导的DNA损伤途径涉及2-脱氧核糖自由基的形成。这些自由基形成在核苷酸的C3'和C5'位置，是通过将LEEs从核碱基转移至DNA寡聚体的磷酸基团而裂解C–O磷酸二酯键的结果。已经获得了大量信息，以阐明通过该过程形成的未修饰寡核苷酸产物的身份。然而，关于由这些糖基的降解形成的修饰病变的性质的信息很少。确定通过2'，3'-二脱氧-C3'-胸苷基（C3'dephos糖自由基），苯基硒化物和酰基修饰的糖以及核苷衍生物已经合成，并且已经评估了它们作为目标自由基的光化学前体的适用性。在存在氢原子供体三丁基锡氢化物的情况下，对C3'衍生的核苷进行光化学活化后，形成2'，3'-二脱氧胸苷，表明选择性生成了C3'磷酸基团。这些前体将使鉴定和量化由LEEs产生的自由基引起的DNA损伤的产物成为可能。

  DOI：

  10.1021/jo300045m
• 作为产物：
  描述：

  二苯基二硒醚 、 3'-O-(methylsulfonyl)-5'-O-(4,4'-dimethoxytrityl)-thymidine 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 以78%的产率得到1-[(2R,4R,5R)-5-[[bis(4-methoxyphenyl)-phenylmethoxy]methyl]-4-phenylselanyloxolan-2-yl]-5-methylpyrimidine-2,4-dione
  参考文献：
  名称：

  C3'修饰核苷的合成，用于选择性生成C3'-Deoxy-3'-胸苷基自由基：LEE诱导DNA损伤的拟议中间体

  摘要：

  据信由低能电子（LEE）诱导的DNA损伤途径涉及2-脱氧核糖自由基的形成。这些自由基形成在核苷酸的C3'和C5'位置，是通过将LEEs从核碱基转移至DNA寡聚体的磷酸基团而裂解C–O磷酸二酯键的结果。已经获得了大量信息，以阐明通过该过程形成的未修饰寡核苷酸产物的身份。然而，关于由这些糖基的降解形成的修饰病变的性质的信息很少。确定通过2'，3'-二脱氧-C3'-胸苷基（C3'dephos糖自由基），苯基硒化物和酰基修饰的糖以及核苷衍生物已经合成，并且已经评估了它们作为目标自由基的光化学前体的适用性。在存在氢原子供体三丁基锡氢化物的情况下，对C3'衍生的核苷进行光化学活化后，形成2'，3'-二脱氧胸苷，表明选择性生成了C3'磷酸基团。这些前体将使鉴定和量化由LEEs产生的自由基引起的DNA损伤的产物成为可能。

  DOI：

  10.1021/jo300045m

文献信息

• Synthesis of C3′ Modified Nucleosides for Selective Generation of the C3′-Deoxy-3′-thymidinyl Radical: A Proposed Intermediate in LEE Induced DNA Damage
  作者：Suaad A. S. Audat、CherylAnn Trzasko Love、Buthina A. S. Al-Oudat、Amanda C. Bryant-Friedrich

  DOI：10.1021/jo300045m

  日期：2012.4.20

  3′-dideoxy-C3′-thymidinyl radical (C3′dephos sugar radical), phenyl selenide and acyl modified sugar and nucleoside derivatives have been synthesized, and their suitability as photochemical precursors of the radical of interest has been evaluated. Upon photochemical activation of C3′-derivatized nucleosides in the presence of the hydrogen atom donor tributyltin hydride, 2′,3′-dideoxythymidine is formed

  据信由低能电子（LEE）诱导的DNA损伤途径涉及2-脱氧核糖自由基的形成。这些自由基形成在核苷酸的C3'和C5'位置，是通过将LEEs从核碱基转移至DNA寡聚体的磷酸基团而裂解C–O磷酸二酯键的结果。已经获得了大量信息，以阐明通过该过程形成的未修饰寡核苷酸产物的身份。然而，关于由这些糖基的降解形成的修饰病变的性质的信息很少。确定通过2'，3'-二脱氧-C3'-胸苷基（C3'dephos糖自由基），苯基硒化物和酰基修饰的糖以及核苷衍生物已经合成，并且已经评估了它们作为目标自由基的光化学前体的适用性。在存在氢原子供体三丁基锡氢化物的情况下，对C3'衍生的核苷进行光化学活化后，形成2'，3'-二脱氧胸苷，表明选择性生成了C3'磷酸基团。这些前体将使鉴定和量化由LEEs产生的自由基引起的DNA损伤的产物成为可能。