2-羟基-2-(2-甲基苯基)-1-苯基乙酮 | 111681-88-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 中文名称: 2-羟基-2-(2-甲基苯基)-1-苯基乙酮
• 英文名称: 2-Hydroxy-2-(2-methylphenyl)-1-phenylethanone
• 英文别名: (+/-)-2'-Methyl-benzoin；2-Hydroxy-2-(2-methylphenyl)-1-phenylethan-1-one
• CAS: 111681-88-0
• 化学式: C₁₅H₁₄O₂
• 分子量: 226.275
• InChiKey: OVUJMQKADBODTC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  64-65 °C
• 沸点：
  380.5±27.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.153±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (2-Phenyl-[1,3]dithian-2-yl)-o-tolyl-methanol 在 iodosobenzene bis(trichloroacetate) 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 0.08h， 生成 2-羟基-2-(2-甲基苯基)-1-苯基乙酮
  参考文献：
  名称：

  有效合成光不稳定的烷氧基安息香保护基

  摘要：

  报道了有效地实施Corey-Seebach二噻吩加成反应以合成光不稳定的烷氧基安息香加合物的方法。该方法允许以接近定量的产率容易地合成光不稳定的3'，5'-二甲氧基苯偶姻保护的化合物，并且一般而言，其可用于合成对称和不对称的苯偶姻。重要的是，报道的二噻吩中间体是用于合成许多光不稳定化合物的通用起始原料，并且在需要多个正交保护基团的复杂合成方案中应作为有用的保护基团。

  DOI：

  10.1016/0040-4039(95)02159-0

文献信息

• A Family of Thiazolium Salt Derived N-Heterocyclic Carbenes (NHCs) for Organocatalysis: Synthesis, Investigation and Application in Cross-Benzoin Condensation
  作者：Isabel Piel、Marius D. Pawelczyk、Keiichi Hirano、Roland Fröhlich、Frank Glorius

  DOI：10.1002/ejoc.201100870

  日期：2011.10

  A family of thiazolium salt derived N-heterocyclic carbenes (NHCs) bearing sterically demanding aryl substituents on the nitrogen and with varying backbone substitution patterns have been synthesized. Investigation of the catalytic activity of these NHCs in a number of benzoin-type coupling reactions revealed markedly different levels of reactivity and selectivity. To elucidate the underlying factors

  已经合成了一系列噻唑鎓盐衍生的 N-杂环卡宾 (NHC)，在氮上具有空间要求的芳基取代基并具有不同的骨架取代模式。对这些 NHC 在许多安息香型偶联反应中的催化活性的研究表明，反应性和选择性水平明显不同。为了阐明导致反应性差异的潜在因素，对这些 NHC 催化剂的电子和空间性质进行了研究。通过使用本研究中最好的催化剂，更详细地探索了分子间交叉安息香缩合反应。
• Photoresponsive fragrances
  申请人：Stowell H.B. Michael

  公开号：US20050020459A1

  公开（公告）日：2005-01-27

  This invention provides fragrance compositions comprising a carrier solution used for cleaning purposes or for topical administration and nonfragrant photoresponsive agents that are capable of undergoing intramolecular photorearrangements to release a fragrance. The photoresponsive fragrance composition may comprise the prephotorearrangement first fragrance agent, the photorearranged and released fragrance agent, a combination of the first and second agents, or any of the above in combination with a known fragrance agent.

  本发明提供了一种香气组合物，包括用于清洁或局部给药的载体溶液和非芳香光响应剂，该光响应剂能够发生分子内光重排反应以释放香气。该光响应香气组合物可以包括预光重排的第一香料剂、光重排释放的香料剂、第一和第二剂的组合，或上述任何一种与已知香料剂的组合。
• NOVEL POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND USE THEREOF
  申请人：Fujihara Kan

  公开号：US20100132989A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  An object of the present invention is to provide a polyimide precursor composition solution that (i) uses no siloxane diamine, (ii) is curable at low temperature (not more than 250° C.) and (iii) has low viscosity regardless of its high concentration, and a photosensitive resin composition, photosensitive resin film, a thermosetting resin composition, a polyimide insulating film, and a printed wiring board with an insulating film, each of which has good physical properties and is obtained by use of the polyimide precursor composition solution. The foregoing object is attained by using a polyimide precursor composition solution which includes at least a (A) urethane imide oligomer having a terminal carboxylic acid group and a (B) diamino compound and/or isocyanate compound.

  本发明的目的是提供一种聚酰亚胺前体组成物溶液，其(i)不使用硅氧烷二胺，(ii)可在低温（不超过250℃）下固化，且(iii)具有低粘度，无论其浓度如何，并提供一种光敏树脂组成物、光敏树脂膜、热固性树脂组成物、聚酰亚胺绝缘膜以及带有绝缘膜的印制电路板，每种产品都具有良好的物理性能，并通过使用聚酰亚胺前体组成物溶液获得。通过使用聚酰亚胺前体组成物溶液，该溶液至少包括(A)具有端羧基的聚氨酯酰亚胺寡聚体和(B)二胺化合物和/或异氰酸酯化合物，从而实现了上述目的。
• NOVEL PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF
  申请人：Sekito Yoshihide

  公开号：US20140069702A1

  公开（公告）日：2014-03-13

  The photosensitive resin composition contains a (A) binder polymer, (B) cross-linked polymer particles, (C) thermosetting resin, (D) photo-polymerization initiator, and a (E) phosphoric flame retardant, in which a content of the (B) cross-linked polymer particles is 30 parts by weight to 100 parts by weight with respect to the 100 parts by weight of the (A) binder polymer, and an average particle diameter of the (B) cross-linked polymer particles is 1 μm to 10 μm. Therefore, the photosensitive resin composition (i) obtains an excellent tack-free property after being applied and dried, (ii) can be subjected to fine processing, (iii) is formed into a cured film having excellent flexibility, flame retardancy, and electrical insulation reliability, and (iv) causes a substrate to have a small warpage after being cured.

  这种光敏树脂组合物包含(A)粘合剂聚合物、(B)交联聚合物微粒、(C)热固性树脂、(D)光聚合引发剂和(E)磷酸盐阻燃剂，其中(B)交联聚合物微粒的含量相对于(A)粘合剂聚合物的100重量份为30重量份到100重量份，并且(B)交联聚合物微粒的平均粒径为1微米到10微米。因此，这种光敏树脂组合物(i)在涂抹和干燥后获得出色的不粘性能，(ii)可以进行精细加工，(iii)形成具有出色的柔韧性、阻燃性和电气绝缘可靠性的固化膜，(iv)使基板在固化后具有较小的翘曲。
• Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
  申请人：Hitachi Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP0373952A2

  公开（公告）日：1990-06-20

  A photosensitive resin composition comprising a photoinitiator and polymer containing a repeating unit of formula (I) wherein R1 is a tetravalent organic group, R2 is a divalent organic group, either one or both of R1 and R2 contains at least one silicon atom and/or at least one fluorine atom, Y, is a monovalent group having an ethylenic unsaturated group; n is zero or 1, m is 1 or 2, and n + m = 2.

  一种光敏树脂组合物，包括一种光引发剂和含有式(I)重复单元的聚合物 其中 R1 是四价有机基团，R2 是二价有机基团，R1 和 R2 中的一个或两个含有至少一个硅原子和/或至少一个氟原子，Y 是具有乙烯基不饱和基团的一价基团；n 是 0 或 1，m 是 1 或 2，n + m = 2。