tert-butyl-4-(methacryloyloxy)piperidine-1-carboxylate salt | 1229727-38-1

• 物质功能分类: 医药中间体 - 嘧啶类化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: tert-butyl-4-(methacryloyloxy)piperidine-1-carboxylate salt
• 英文别名: 1-tert-butoxycarbonylpiperidin-4-yl methacrylate；1-Boc-4-piperidyl Methacrylate；tert-butyl 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)piperidine-1-carboxylate
• CAS: 1229727-38-1
• 化学式: C₁₄H₂₃NO₄
• 分子量: 269.341
• InChiKey: OPBBOBUIIJVYCN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  341.1±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.07±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸酐 、 N-Boc-4-羟基哌啶 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 水 、 甲苯 为溶剂， 以90%的产率得到tert-butyl-4-(methacryloyloxy)piperidine-1-carboxylate salt
  参考文献：
  名称：

  NITROGEN-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种化学增感正向光阻组合物可以使用具有淬灭剂的聚合物制备，具体来说，该聚合物包含具有碳酸酯结构的重复单元，该碳酸酯结构在酸的作用下分解生成氨基团，并且可以包含具有酸敏感基团的重复单元，该酸敏感基团在酸的作用下能够生成羧基和/或羟基团。该聚合物对于抑制酸的扩散非常有效，并且本身扩散很少，组合物形成高分辨率的矩形剖面图案。

  公开号：

  US20120183904A1

文献信息

• (METH)ACRYLIC ACID ESTER, ACTIVATION ENERGY RAY CURING COMPOSITION, AND INKJET RECORDING INK
  申请人：MORITA Mitsunobu

  公开号：US20130144057A1

  公开（公告）日：2013-06-06

  (Meth)acrylic acid ester, which contains one or more partial structures each represented by the following formula 1 in a molecule thereof, wherein the partial structure is a urethane structure which does not have a hydrogen atom directly bonded to a nitrogen atom of the following formula 1: where the nitrogen atom is not bonded to a hydrogen atom.

  (Meth)acrylic acid ester，其中每个分子含有一个或多个由以下式1表示的部分结构，其中该部分结构是一种脲酯结构，不具有直接与以下式1中的氮原子结合的氢原子：其中氮原子未与氢原子结合。
• (Meth)acrylate compound, photosensitive polymer, and resist composition including the same
  申请人：Yang Young-Soo

  公开号：US20100151388A1

  公开（公告）日：2010-06-17

  A (meth)acrylate compound having a nitrogen-containing cyclic group, a photosensitive polymer, and a resist composition including the same, the (meth)acrylate compound being represented by the following Chemical Formula 1:

  一种含有氮杂环基团的（甲基）丙烯酸酯化合物，一种光敏聚合物和包括该化合物的抗蚀组合物，其中（甲基）丙烯酸酯化合物由以下化学式1表示：
• PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120183903A1

  公开（公告）日：2012-07-19

  A pattern is formed by applying a resist composition comprising a polymer comprising recurring units having a nitrogen atom bonded to an acid labile group, an acid generator, and an organic solvent onto a substrate, prebaking to form a resist film, exposing the resist film to high-energy radiation, baking, and developing the exposed film with an organic solvent developer to form a negative pattern wherein the unexposed region of film is dissolved and the exposed region of film is not dissolved.

  通过将包含氮原子与酸敏感基团键合的聚合物、酸发生剂和有机溶剂组成的抗蚀剂组合物应用于基底上，形成一个图案。预烘烤以形成抗蚀膜，将抗蚀膜暴露于高能辐射，烘烤，然后使用有机溶剂显影剂对暴露的膜进行显影，形成负图案，其中未暴露区域的膜被溶解，而暴露区域的膜不被溶解。
• PHOTORESIST AND COATED SUBSTRATE COMPRISING SAME
  申请人：Wang Deyan

  公开号：US20140065540A1

  公开（公告）日：2014-03-06

  A polymer includes the polymerized product of monomers including a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II): wherein a, L 1 , LN, R a , R b , R c , and X are defined herein. The polymer is a useful component of a photoresist composition.

  一种聚合物包括单体的聚合产物，其中包括一种含有氮的单体，其化学式为（Ia）、化学式为（Ib）或化学式（Ia）和（Ib）的组合，并且还包括具有化学式（II）的酸解保护单体：其中a、L1、LN、Ra、Rb、Rc和X的定义如本文所述。该聚合物是光阻组合物的有用组分。
• SURFACE ACTIVE ADDITIVE AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Wang Deyan

  公开号：US20130137035A1

  公开（公告）日：2013-05-30

  A polymer comprises the polymerized product of monomers comprising a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II): wherein a is 0 or 1, each R a is independently H, F, C 1-10 alkyl, or C 1-10 fluoroalkyl, L 1 is a straight chain or branched C 1-20 alkylene group, or a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 3-20 cycloalkylene group, each R b is independently H, C 1-10 alkyl, C 3-20 cycloalkyl, C 3-20 heterocycloalkyl, an aliphatic C 5-20 oxycarbonyl, or a C 1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group, where each R b is separate or at least one R b is attached to an adjacent R b ; LN is a nitrogen-containing monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 3-20 heterocycloalkylene group, and X is H, C 1-10 alkyl, aliphatic C 5-20 oxycarbonyl, or a C 1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group; and each R c is independently C 1-10 alkyl, C 3-20 cycloalkyl, or C 3-20 heterocycloalkyl, wherein each R c is separate or at least one R c is attached to an adjacent R c .

  一种聚合物包括由单体聚合而成的产物，所述单体包括式（Ia）、式（Ib）或式（Ia）和（Ib）的组合所包含的含氮单体，以及具有式（II）的酸去保护单体：其中a为0或1，每个Rais独立地为H、F、C1-10烷基或C1-10氟烷基，L1为直链或支链C1-20烷基，或单环、多环或融合多环C3-20环烷基，每个Rbis独立地为H、C1-10烷基、C3-20环烷基、C3-20杂环烷基、脂肪族C5-20氧羰基或C1-30酰基，可包括一个杂原子取代基，其中每个Rbis分离或至少一个Rbis连接到相邻的Rb上；LN为含氮单环、多环或融合多环C3-20杂环烷基，X为H、C1-10烷基、脂肪族C5-20氧羰基或C1-30酰基，可包括一个杂原子取代基；每个Rcis独立地为C1-10烷基、C3-20环烷基或C3-20杂环烷基，其中每个Rcis分离或至少一个Rcis连接到相邻的Rc上。