6-bromonaphthalenecarbonyl chloride | 87700-69-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 6-bromonaphthalenecarbonyl chloride
• 英文别名: 6-Bromonaphthalene-1-carbonyl chloride
• CAS: 87700-69-4
• 化学式: C₁₁H₆BrClO
• 分子量: 269.525
• InChiKey: ZHJWDLGEZAGTHG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  361.7±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.622±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-bromonaphthalenecarbonyl chloride 、 苯胺 以 苯 为溶剂， 生成 6-Bromo-naphthalene-1-carboxylic acid phenylamide
  参考文献：
  名称：

  Ananthakrishnanadar, P.; Varghesedharumaraj, G., Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 1983, vol. 22, # 5, p. 506 - 507

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING SAME
  申请人：TOYO GOSEI CO., LTD.

  公开号：US20200048191A1

  公开（公告）日：2020-02-13

  An onium salt and a composition having high sensitivity and excellent pattern characteristics such as LWR, which is preferably used for a resist composition for a lithography process using two active energy rays of a first active energy ray such as an electron beam or an extreme ultraviolet and a second active energy ray such as UV.

  一种酰铵盐和具有高灵敏度和优秀图案特性（如LWR）的组合物，最好用于利用第一活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二活性能量射线（如紫外线）的光刻工艺的光刻胶组合物。
• Composition and method for manufacturing device using same
  申请人：TOYO GOSEI CO., LTD.

  公开号：US11142495B2

  公开（公告）日：2021-10-12

  An onium salt and a composition having high sensitivity and excellent pattern characteristics such as LWR, which is preferably used for a resist composition for a lithography process using two active energy rays of a first active energy ray such as an electron beam or an extreme ultraviolet and a second active energy ray such as UV.

  一种鎓盐和一种具有高灵敏度和优异图案特性（如 LWR）的组合物，该组合物最好用于光刻工艺中的抗蚀剂组合物，该光刻工艺使用第一种活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二种活性能量射线（如紫外线）。