(t-Bu2MeSi)SiHCl2 | 943621-68-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (t-Bu2MeSi)SiHCl2
• 英文别名: 1,1-di-tert-butyl-2,2-dichloro-1-methyldisilane
• CAS: 943621-68-9
• 化学式: C₉H₂₂Cl₂Si₂
• 分子量: 257.351
• InChiKey: REBWAWZUVHWLIK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.44
• 重原子数：
  13.0
• 可旋转键数：
  1.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (t-Bu2MeSi)SiHCl2 在 naphthalen-1-yl-lithium 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙二醇二甲醚 为溶剂， 反应 15.0h， 以42%的产率得到trans,trans,trans-1,2,3,4-tetrakis(di-tert-butylmethylsilyl)tetrasilane
  参考文献：
  名称：

  6π电子阴离子环系统的重类似物：环戊二烯二酸根离子和环丁二烯二价阴离子

  摘要：

  阴离子6π电子体系的重类似物，锂1,2-二硅杂-3- germacyclopentadienide 2 -  ·  [李+（THF）]，1,2-二硅杂-3,4- digerma-和1,2,3- ，4- tetrasilacyclobutadiene二价阴离子7 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]和8 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]中，通过中性前体的还原合成的1，3和4分别。2 −  ·  [Li +（thf）]中，环戊二烯离子的重类似物，是一种芳族化合物，而7 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]和8 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]中，环丁二烯二价阴离子的重类似物，都是非芳香族的。

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2007.01.011
• 作为产物：
  描述：

  di-tert-butylmethylsilylsodium 在 三氯硅烷 作用下， 以 正己烷 、 正庚烷 为溶剂， 反应 2.0h， 以57%的产率得到(t-Bu2MeSi)SiHCl2
  参考文献：
  名称：

  6π电子阴离子环系统的重类似物：环戊二烯二酸根离子和环丁二烯二价阴离子

  摘要：

  阴离子6π电子体系的重类似物，锂1,2-二硅杂-3- germacyclopentadienide 2 -  ·  [李+（THF）]，1,2-二硅杂-3,4- digerma-和1,2,3- ，4- tetrasilacyclobutadiene二价阴离子7 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]和8 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]中，通过中性前体的还原合成的1，3和4分别。2 −  ·  [Li +（thf）]中，环戊二烯离子的重类似物，是一种芳族化合物，而7 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]和8 2 -  ·  2 [K +（THF）2 ]中，环丁二烯二价阴离子的重类似物，都是非芳香族的。

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2007.01.011

文献信息

• NHC-stabilized silyl-substituted silyliumylidene ions
  作者：Philipp Frisch、Shigeyoshi Inoue

  DOI：10.1039/c9dt02010a

  日期：——

  Expanding the scope of N-heterocyclic carbene stabilized silyliumylidene ions: isolation of the first silyl-substituted Si(ii) cations.

  扩大N-杂环卡宾稳定的硅杂环亚甲基离子的范围：分离出第一个硅基取代的Si(II)阳离子。
• Isolable Photoreactive Polysilyl Radicals
  作者：Gregory Molev、Boris Tumanskii、Dennis Sheberla、Mark Botoshansky、Dmitry Bravo-Zhivotovskii、Yitzhak Apeloig

  DOI：10.1021/ja905097b

  日期：2009.8.26

  Reaction of silyl substituted dichlorosilanes with lithiosilanes in hexane leads exclusively to the corresponding stable silyl radicals. Two radicals, the new (t-Bu2MeSi)(2)HSi(t-Bu2MeSi)(2)Si center dot (1) and the previously isolated (t-Bu2MeSi)(3)Si center dot (2), were isolated and fully characterized including by X-ray crystallography. This one-step method is general and was applied for the synthesis of other silyl. radicals. Upon irradiation radical 1 (yellow solution in hexane) decays to yield the corresponding disproportionation products, silane and disilene (blue colored). In contrast, radical 2 is photostable in the absence of additives, but it abstracts hydrogen from triethylsilane and 2-propanol upon irradiation. DFT calculations and irradiation experiments with lambda > 400 nm suggest that SOMO-1 square SOMO excitation, which provides better electron accepting properties to the radical, is responsible for the photoreactivity of 1 and 2.