spiro[bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3'-oxetane] | 6568-09-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧杂环丁烷
• 英文名称: spiro[bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3'-oxetane]
• 英文别名: spiro[bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2,3'-oxetane]；Spiro[bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,3'-oxetane]
• CAS: 6568-09-8
• 化学式: C₉H₁₂O
• 分子量: 136.194
• InChiKey: KMHVMZLBAFHTCH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• Resist ink composition
  申请人：——

  公开号：US20030022958A1

  公开（公告）日：2003-01-30

  The present invention provides a resist ink composition comprising a compound (a) having at least one oxetanyl group and at least one epoxy group within the same molecule and a compound (b) capable of initiating cationic polymerization under irradiation by an active energy ray and/or under heat. This resist ink composition has high photosensitivity and enables the final curing by a brief heating and the cured film exhibits good physical properties.

  本发明提供了一种抗蚀墨水组合物，包括一个化合物（a），其分子内至少具有一个环氧乙烷基团和至少一个环氧基团，以及一种化合物（b），能够在活性能量射线辐射和/或热下启动阳离子聚合。该抗蚀墨水组合物具有高感光性，可以通过短暂加热最终固化，固化薄膜具有良好的物理性能。
• POLYMERIZABLE COMPOSITION, CURED MATERIAL THEREOF AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
  申请人：Showa Denko K.K.

  公开号：EP1237983B1

  公开（公告）日：2007-08-01
• US6783840B2
  申请人：——

  公开号：US6783840B2

  公开（公告）日：2004-08-31