C4F9SO2N(C3H7)(CH2)5Cook | 864069-34-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: C4F9SO2N(C3H7)(CH2)5Cook
• 英文别名: potassium;6-[1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl(propyl)amino]hexanoate
• CAS: 864069-34-1
• 化学式: C13H17F9KNO4S
• 分子量: 493.43
• InChiKey: XLEGJCWUXKRKJN-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.23
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  85.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  14

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  C4F9SO2N(C3H7)(CH2)5Cooc2H5 、 氢氧化钾 、 异丙醇 以 水 为溶剂， 反应 16.0h， 以yielding a solution of C4F9SO2N(C3H7)(CH2)5COOK (61.3% solids)的产率得到C4F9SO2N(C3H7)(CH2)5Cook
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated sulfonamide surfactants for aqueous cleaning solutions

  摘要：

  本文描述了阴离子N-取代的氟磺酰胺表面活性剂及其在清洗和酸蚀溶液中的应用。这些清洗和蚀刻溶液可用于各种基底，例如，用于清洗和蚀刻含硅氧化物的基底。

  公开号：

  US07294610B2

文献信息

• FLUORINATED SULFONAMIDE SURFACTANTS FOR AQUEOUS CLEANING SOLUTIONS
  申请人：Savu M. Patricia

  公开号：US20080078747A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.

  本文描述了阴离子N-取代的氟磺酰胺表面活性剂及其在清洗和酸蚀溶液中的应用。这些清洗和蚀刻溶液可用于各种基底，例如用于清洗和蚀刻含有二氧化硅基底。