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1,2-Dipropinyloxynaphthalin | 20009-37-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,2-Dipropinyloxynaphthalin
英文别名
1,2-Bis(prop-2-ynoxy)naphthalene
1,2-Dipropinyloxynaphthalin化学式
CAS
20009-37-4
化学式
C16H12O2
mdl
——
分子量
236.27
InChiKey
LYKPBLYYETUBSG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.3
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.12
  • 拓扑面积:
    18.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • COMPOUND FOR FORMING ORGANIC FILM, COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20170184968A1
    公开(公告)日:2017-06-29
    A compound for forming an organic film shown by the formula (1A), R—(—X) m1 (1A) wherein R represents a single bond or an organic group having 1 to 50 carbon atoms; X represents a group shown by formula (1B); and ml represents an integer satisfying 2≦m1≦10, wherein X 2 represents a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms; n1 represents 0 or 1; n2 represents 1 or 2; X 3 represents a group shown by the formula (1C); and n5 represents 0, 1, or 2, wherein R 10 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, wherein a hydrogen atom of the benzene ring in formula (1C) may be substituted with a methyl group or methoxy group. This compound for forming an organic film can provide organic film composition having good dry etching resistance, heat resistance to 400° C. or higher, high filling and planarizing properties.
    一种用于形成有机薄膜的化合物,其化学式为(1A),R—(—X)m1(1A),其中R代表一个单键或具有1至50个碳原子的有机基团;X代表化学式(1B)所示的基团;m1代表满足2≦m1≦10的整数,其中X2代表具有1至10个碳原子的二价有机基团;n1代表0或1;n2代表1或2;X3代表化学式(1C)所示的基团;n5代表0、1或2,其中R10代表氢原子或具有1至10个碳原子的饱和或不饱和碳氢基团,化学式(1C)中苯环的氢原子可能被甲基基团或甲氧基取代。这种用于形成有机薄膜的化合物可以提供具有良好干法刻蚀抗性、耐高温至400°C或更高、高填充和平整化性能的有机薄膜组合物。
  • Aromatic allene compounds and preparation thereof
    申请人:NIPPON PAINT CO., LTD.
    公开号:EP0333445A2
    公开(公告)日:1989-09-20
    Allene compounds have the formula: (CH₂=C=CH-O)n- R -(A)m      (I) in which R is a substituted or unsubstituted mono- or poly­valent benzene, naphthalene, anthracene, azobenzene, bisphenol or polyphenyl (containing 2 to 10 benzene rings connected in line) nucleus, or a group -Ph - R¹ - Ph -      (II) (in which each group Ph is a phenylene, halophenylene, alkylphenylene, cyanophenylene or alkoxyphenylene group, and the chain R¹ linking the two group Ph is a C₁ - C₆ aliphatic hydrocarbon or an alicyclic hydrocarbon group, the chain optionally being interrupted by one or more oxygen atoms); A is a carboxyl or sulphonyl group or a group -CH=C=CH₂; n is an integer of from 1 to 10; m is 0, 1, 2 or 3; and the sum of m and n is equal to the valence of the group R. They may be prepared by isomerization of corresponding propargyloxy compounds.
    烯化合物的化学式为 (CH₂=C=CH-O)n- R -(A)m (I) 其中 R 是取代或未取代的单价或多价苯、偶氮苯、双或多苯基(含有 2 至 10 个连成一线的苯环)核,或一个基团 -Ph - R¹ - Ph - (II) (其中每个基团 Ph 是亚苯基、卤代亚苯基、烷基亚苯基、基亚苯基或烷氧基亚苯基基团,连接两个基团 Ph 的链 R¹ 是 C₁ - C₆ 脂肪族烃或脂环族烃基团,该链可选择被一个或多个氧原子打断); A 是羧基或磺酰基或基团-CH=C=CH₂;n 是 1 至 10 的整数;m 是 0、1、2 或 3;m 与 n 之和等于基团 R 的化合价。 它们可以通过相应的丙炔基氧基化合物的异构化反应制备。
  • Compound for forming organic film, composition for forming organic film, method for forming organic film, and patterning process
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US10444628B2
    公开(公告)日:2019-10-15
    A compound for forming an organic film shown by the formula (1A), RX)m1  (1A) wherein R represents a single bond or an organic group having 1 to 50 carbon atoms; X represents a group shown by formula (1B); and m1 represents an integer satisfying 2≤m1≤10, wherein X2 represents a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms; n1 represents 0 or 1; n2 represents 1 or 2; X3 represents a group shown by the formula (1C); and n5 represents 0, 1, or 2, wherein R10 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, wherein a hydrogen atom of the benzene ring in formula (1C) may be substituted with a methyl group or methoxy group. This compound for forming an organic film can provide organic film composition having good dry etching resistance, heat resistance to 400° C. or higher, high filling and planarizing properties.
    一种用于形成式 (1A) 所示有机薄膜的化合物、 RX)m1 (1A) 其中 R 代表单键或具有 1 至 50 个碳原子的有机基团;X 代表式 (1B) 所示的基团;m1 代表满足 2≤m1≤10 的整数、 其中 X2 代表具有 1 至 10 个碳原子的二价有机基团;n1 代表 0 或 1;n2 代表 1 或 2;X3 代表式(1C)所示的基团;n5 代表 0、1 或 2、 其中 R10 代表氢原子或具有 1 至 10 个碳原子的饱和或不饱和烃基,其中式(1C)中苯环的氢原子可被甲基或甲氧基取代。这种用于形成有机薄膜的化合物可提供具有良好耐干蚀刻性、400° C 或更高耐热性、高填充性和平面化性能的有机薄膜组合物。
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