β-Naphthalinsulfonsaeure-4'-cyanophenylester | 49584-09-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: β-Naphthalinsulfonsaeure-4'-cyanophenylester
• 英文别名: 4-(naphthalene-2-sulfonyloxy)benzonitrile；(4-Cyanophenyl) naphthalene-2-sulfonate
• CAS: 49584-09-0
• 化学式: C₁₇H₁₁NO₃S
• 分子量: 309.345
• InChiKey: XVQGXXAFRFBXPW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  75.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Strahlungsempfindliche Sulfonsäureester und deren Verwendung
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0519298A1

  公开（公告）日：1992-12-23

  Die Erfindung betrifft Sulfonsäureester des 2,4-Bis-trichlormethyl-6-(mono- oder dihydroxyphenyl)-[1,3,5]-triazins sowie ein negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit a) einer Verbindung, die unter Einwirkung von aktinischer Strahlung starke Säure bildet, b) einer Verbindung mit mindestens zwei durch Säure vernetzbaren Gruppen und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung a) ein mit Sulfonsäure(n) der Formel R-SO₃H bzw. R'(-SO₃H)₂ verestertes 2,4-Bis-trichlormethyl-6-(mono- oder dihydroxyphenyl)-[1,3,5]-triazin der allgemeinen Formeln I und/oder II ist wobei R einen ggf. weiter substituierten (C₁-C₁₀)Alkyl-, (C₅-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₀)Aryl-, (C₆-C₁₀)Aryl-(C₁-C₁₀)alkyl-, (C₃-C₉)Heteroarylrest, R' einen ggf. substituierten (C₁-C₁₀)Alkylen-, (C₆-C₁₀)Arylen- oder (C₃-C₉)-Heteroarylenrest bezeichnet und n 1 oder 2 sein kann. Das erfindungsgemäße, strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Auflösung und eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Die Erfindung betrifft weiterhin ein daraus hergestelltes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das zur Herstellung von Photoresists, elektronischen Bauteilen, Druckplatten oder zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及 2,4-双三氯甲基-6-(单羟基或二羟基苯基)-[1,3,5]-三嗪的磺酸酯和一种负作 用辐射敏感混合物，其中含有 a) 在辐照下会形成强酸的化合物、 b) 具有至少两个可交联酸性基团的化合物，以及 c) 不溶于水、可溶于或至少可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂、 其特征在于，该化合物 a) 是通式 I 和/或 II 中分别与式 R-SO₃H 或 R'(-SO₃H)₂的磺酸酯化的 2,4-双三氯甲基-6-(一羟基或二羟基苯基)-[1,3,5]-三嗪 其中 R 是任选进一步取代的(C₁-C₁₀)烷基、(C₅-C₁₀)环烷基、(C₆-C₁₀)芳基、(C₆-C₁₀)芳基-(C₁-C₁₀)烷基、(C₃-C₉)杂芳基，R' 是任选取代的(C₃-C₉)杂芳基，R'是任选取代的取代的(C₁-C₁₀)亚烷基、(C₆-C₁₀)芳烷基或(C₃-C₉)杂芳基，且 n 可以是 1 或 2。 根据本发明的辐射敏感混合物的特点是在宽光谱范围内具有高分辨率和高灵敏度。 本发明还涉及由其制成的辐射敏感记录材料，该材料适用于生产光刻胶、电子元件、印刷板或用于模制件蚀刻。
• US5298364A
  申请人：——

  公开号：US5298364A

  公开（公告）日：1994-03-29
• US5442061A
  申请人：——

  公开号：US5442061A

  公开（公告）日：1995-08-15