[3,4-bis[[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxy]phenyl] (6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate | 110701-05-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: [3,4-bis[[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxy]phenyl] (6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate
• CAS: 110701-05-8
• 化学式: C₃₆H₁₈N₆O₁₂S₃
• 分子量: 822.77
• InChiKey: VSGVHPUQCVOUMP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  11.8
• 重原子数：
  57
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  309
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  15

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [3,4-bis[[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxy]phenyl] (6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate 以 乙腈 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  溶剂、激发波长和浓度对某些重氮萘醌光行为的影响

  摘要：

  重氮萘醌 (DNQ) 是用于制造集成电路的抗蚀剂的光敏成分。暴露于辐射这些化合物释放分子氮经历环收缩（沃尔夫重排）。在这项工作中，研究了带有两个和三个发色团 DNQ 单元的三种化合物的光行为。使用一些照射波长和不同的 DNQ 浓度，在 290 K 的乙腈和 80 K 的乙醇/甲醇（4/1，v/v）固体基质中测定了反应物消失的光化学量子效率。所得结果表明，光反应过程很大程度上取决于介质、浓度、温度和激发波长。

  DOI：

  10.3998/ark.5550190.0012.915

文献信息

• Non-precipitating photoresist composition
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0220544A2

  公开（公告）日：1987-05-06

  There is disclosed a photoresist composition comprising a light-sensitive, quinone diazide polymer, a binder and a benzene monomer trisubstituted with a diazo-naphthoquinone-sulfonyloxy group. The com­position is characterized in that the diazo­naphthoquinone-sulfonyloxy group occupies the 1,2,4-positions on the benzene ring, whereby improved solubility is achieved.

  本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，该组合物包含一种光敏重氮化醌聚合物、一种粘合剂和一种用重氮-萘醌-磺酰氧基三取代的苯单体。该组合物的特点是重氮萘醌-磺酰氧基基团占据苯环上的 1、2、4-位，从而提高了溶解性。