8-nitro-naphthalene-2-sulfonyl chloride | 858024-06-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 8-nitro-naphthalene-2-sulfonyl chloride
• 英文别名: 8-Nitro-naphthalin-2-sulfonylchlorid；8-Nitronaphthalene-2-sulfonyl chloride
• CAS: 858024-06-3
• 化学式: C₁₀H₆ClNO₄S
• 分子量: 271.681
• InChiKey: GLDTULSEFNAICF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  446.8±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.579±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  88.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  8-nitro-naphthalene-2-sulfonyl chloride 在 肼 作用下， 反应 2.0h， 生成 8-nitro-naphthalene-2-sulfonic acid-(D-ribo-2,6-dideoxy-hexitol-1-ylidenehydrazide)
  参考文献：
  名称：

  Westphal et al., Biochemische Zeitschrift, 1954, vol. 326, p. 139,145

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-萘磺酸 生成 8-nitro-naphthalene-2-sulfonyl chloride 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid
  参考文献：
  名称：

  Erdmann; Suevern, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1893, vol. 275, p. 252

  摘要：

  DOI：

文献信息

• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Kawahara, Yakugaku Zasshi/Journal of the Pharmaceutical Society of Japan, 1957, vol. 77, p. 963
  作者：Kawahara

  DOI：——

  日期：——
• Cleve, Chemische Berichte, 1887, vol. 20, p. 1534
  作者：Cleve

  DOI：——

  日期：——
• Palmaer, Chemische Berichte, 1888, vol. 21, p. 3260
  作者：Palmaer

  DOI：——

  日期：——