O-Benzoyl-anti-benzilmonoxim | 28867-80-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: O-Benzoyl-anti-benzilmonoxim
• 英文别名: benzil-mono-(O-benzoyl-seqtrans-oxime )；Benzil-mono-(O-benzoyl-seqtrans-oxim)；O-benzoyl 1,2-diphenyl-2-oximinoethanone；[(E)-(2-oxo-1,2-diphenylethylidene)amino] benzoate
• CAS: 28867-80-3
• 化学式: C₂₁H₁₅NO₃
• 分子量: 329.355
• InChiKey: QPEVDCROSJPIIE-ZBJSNUHESA-N

物化性质

• 沸点：
  479.2±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.13±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  55.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  O-Benzoyl-anti-benzilmonoxim 在 盐酸 、 乙醇 作用下， 生成 β-Benzil-monoxim-benzoat
  参考文献：
  名称：

  Shift in Configuration of Certain α-Benzil Monoxime Benzoates

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01272a029

文献信息

• Curable composition
  申请人：Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：EP0203393A1

  公开（公告）日：1986-12-03

  A curable composition comprising (a) a curable polyimide soluble in organic solvents and (b) a polymerization initiator as essential components, said polyimide consisting of recurring units represented by the formula wherein, each of X, X1, X2, X3 and X4 is a tetravalent carbocyclic or heterocyclic residue, each of Y1, Y2 and Y3 is a divalent carbocyclic or heterocyclic residue, at least one of Z1 and Z2 is a residue having a reactive carbon-carbon double bond, and each of I, m, and n is an integer of 0 or larger.

  一种可固化组合物，包括(a)可溶于有机溶剂的可固化聚酰亚胺和(b)作为基本成分的聚合引发剂，所述聚酰亚胺由由式表示的递归单元组成 其中，X、X1、X2、X3 和 X4 中的每一个是四价碳环或杂环残基，Y1、Y2 和 Y3 中的每一个是二价碳环或杂环残基，Z1 和 Z2 中的至少一个是具有活性碳碳双键的残基，I、m 和 n 中的每一个是 0 或更大的整数。
• Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
  申请人：Hitachi Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP0373952A2

  公开（公告）日：1990-06-20

  A photosensitive resin composition comprising a photoinitiator and polymer containing a repeating unit of formula (I) wherein R1 is a tetravalent organic group, R2 is a divalent organic group, either one or both of R1 and R2 contains at least one silicon atom and/or at least one fluorine atom, Y, is a monovalent group having an ethylenic unsaturated group; n is zero or 1, m is 1 or 2, and n + m = 2.

  一种光敏树脂组合物，包括一种光引发剂和含有式(I)重复单元的聚合物 其中 R1 是四价有机基团，R2 是二价有机基团，R1 和 R2 中的一个或两个含有至少一个硅原子和/或至少一个氟原子，Y 是具有乙烯基不饱和基团的一价基团；n 是 0 或 1，m 是 1 或 2，n + m = 2。
• Photosensitive resin composition and semiconductor apparatus using it
  申请人：SUMITOMO BAKELITE COMPANY LIMITED

  公开号：EP0430220A2

  公开（公告）日：1991-06-05

  The present invention provides a photosensitive resin composition which comprises as essential components: (A) a polyamic acid having a recurring unit represented by the following formula [I]: wherein 0.5-50 mol% of R₁ consists of a silicone diamine residue represented by the following formula [II]: wherein n represents an integer of 1-50, and the remainder of 50-99.5 mol% of R₁ consists of an organic group selected from the group consisting of an aromatic group, an aliphatic group, an alicyclic group, and a heterocyclic group, and R₂ consists of an organic group selected from the group consisting of an aromatic group, an aliphatic group, an alicyclic group, a heterocyclic group, and a silicone group, and m represents 1 or 2, (B) an amide compound having carbon-carbon double bond, and (C) a photosensitizer. The present invention further provides a semiconductor apparatus in which the above composition is used.

  本发明提供了一种光敏树脂组合物，其主要成分包括 (A) 具有下式[I]代表的递归单元的聚酰胺酸： 其中0.5-50 摩尔%的R₁由下式[II]代表的有机硅二胺残基组成： 其中n代表1-50的整数，其余50-99.5 mol％的R₁由选自芳香族基团、脂肪族基团、脂环族基团和杂环族基团的有机基团组成，R₂由选自芳香族基团、脂肪族基团、脂环族基团、杂环族基团和硅酮基团的有机基团组成，m代表1或2、 (B) 具有碳碳双键的酰胺化合物，和 (C) 一种光敏剂。 本发明进一步提供了一种使用上述组合物的半导体装置。
• Durch Einwirkung von Strahlung vernetzendes Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen
  申请人：BASF Lacke + Farben Aktiengesellschaft

  公开号：EP0571899A1

  公开（公告）日：1993-12-01

  Die Erfindung betrifft durch Einwirkung von Strahlung vernetzende Gemische, im wesentlichen bestehend aus (I) mindestens einer in polaren organischen Lösungsmitteln löslichen carboxylgruppenhaltigen polymeren Vorstufe hochtemperaturbeständiger heterocyclischer Polymerer, (II) einem copolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten ternären Sulfoniumsalz, (III) einem Photoinitiator oder Photoinitiatorsystem und (IV) mindetens einem polaren aprotischen organischen Lösungsmittel. Diese Gemische eignen sich zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen.

  本发明涉及在辐射作用下交联的混合物，主要包括 (I) 至少一种可溶于极性有机溶剂的耐高温杂环聚合物的含羧基聚合物前体、 (II) 可共聚的乙烯不饱和三元锍盐 (III) 一种光引发剂或光引发剂体系，以及 (IV) 至少一种极性烷基有机溶剂。 这些混合物适用于生产耐高温浮雕结构。
• US4778859A
  申请人：——

  公开号：US4778859A

  公开（公告）日：1988-10-18