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3-(dibenzo[b,d]furan-4-yl)-2-(hydroxymethyl)-4H-thiochromen-4-one | 1187758-62-8

中文名称
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中文别名
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英文名称
3-(dibenzo[b,d]furan-4-yl)-2-(hydroxymethyl)-4H-thiochromen-4-one
英文别名
3-Dibenzofuran-4-yl-2-(hydroxymethyl)thiochromen-4-one
3-(dibenzo[b,d]furan-4-yl)-2-(hydroxymethyl)-4H-thiochromen-4-one化学式
CAS
1187758-62-8
化学式
C22H14O3S
mdl
——
分子量
358.417
InChiKey
XAEFQVIWDZJRCX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.6
  • 重原子数:
    26
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    5.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.05
  • 拓扑面积:
    75.7
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

文献信息

  • PHOTODISSOCIABLE PROTECTIVE GROUP
    申请人:Kakiuchi Kiyomi
    公开号:US20110028738A1
    公开(公告)日:2011-02-03
    The present invention provides a photolabile protecting group that can be removed by light irradiation under mild conditions. More specifically, the present invention provides a method comprising protecting a reactive functional group (e.g., a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, carbonyl group, phosphodiester group, etc.) by the photolabile protecting group, and then removing the photolabile protecting group simply by light irradiation under neutral conditions. The present invention relates to a compound represented by Formula (3): wherein Ar 1 is an optionally substituted aromatic or heteroaromatic ring, Ar 2 is an optionally substituted aryl or heteroaryl group, X is a leaving group, and n is an integer of 1 or 2; and a method of protecting and deprotecting an amino group etc. using the compound.
    本发明提供了一种可以在温和条件下通过光照射去除的光敏保护基团。更具体地说,本发明提供了一种方法,包括通过光敏保护基团保护一个反应性功能团(例如,羟基、基、羧基、酮基、二酯基等),然后在中性条件下简单地通过光照射去除光敏保护基团。本发明涉及一种由公式(3)表示的化合物:其中Ar1是可选地取代的芳香或杂芳环,Ar2是可选地取代的芳基或杂芳基团,X是离去基团,n是1或2的整数;以及一种使用该化合物保护和解保护基等的方法。
  • US8222429B2
    申请人:——
    公开号:US8222429B2
    公开(公告)日:2012-07-17
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