(4-((2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)propanoyl)oxy)phenyl)-diphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate | 1375105-01-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: (4-((2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)propanoyl)oxy)phenyl)-diphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate
• 英文别名: (4-((2,2-Difluoro-3-(methacryloyloxy)propanoyl)oxy)phenyl)diphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate；[4-[2,2-difluoro-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propanoyl]oxyphenyl]-diphenylsulfanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 1375105-01-3
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₂₅H₂₁F₂O₄S
• 分子量: 754.596
• InChiKey: HKXWKLUYOKYWBJ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.4
• 重原子数：
  49
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  119
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  18

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-hydroxyphenyl diphenylsulfonium nonafluoro-n-butanesulfonate 、 2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)propanoic acid 在 4-二甲氨基吡啶 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 (4-((2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)propanoyl)oxy)phenyl)-diphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。

  公开号：

  EP2452932A2

文献信息

• BASE REACTIVE PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：AQAD Emad

  公开号：US20120129108A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这些化合物的光刻胶组成物。特别地，本发明涉及包含可被碱剪断基团的光酸发生剂化合物。
• US9156785B2
  申请人：——

  公开号：US9156785B2

  公开（公告）日：2015-10-13
• Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2452932A2

  公开（公告）日：2012-05-16

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。