(η5-methylcyclopentadienyl)sodium | 55562-83-9

• 物质功能分类: 有机原料 - 羧酸类化合物及衍生物
• 英文名称: (η5-methylcyclopentadienyl)sodium
• 英文别名: sodium methyl cyclopentadienide；Na(η⁵-C₅H₄Me)；NaMeCp；(η5-methylcyclopentadienyl)Na
• CAS: 55562-83-9
• 化学式: C₆H₇Na
• 分子量: 102.111
• InChiKey: ZRRYUQJVPSKTQH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (η5-methylcyclopentadienyl)sodium 、 氯化锆(IV) 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 48.0h， 以72%的产率得到双(甲基环戊二烯)二氯化锆
  参考文献：
  名称：

  第4组金属的三（环戊二烯基）配合物的结构多样性：Zr和Hf的Cp和MeCp配合物的合成以及（MeCp）3 HfCl和（MeCp）4 Zr的晶体学表征（MeCp = C 5 H 4 CH 3）

  摘要：

  先前的理论研究已经预测了三（环戊二烯基）锆和ha配合物Cp 3 MX（Cp = C 5 H 5 ; M = Zr，Hf）之间的结构差异。可以通过Cp 2 ZrCl 2和NaCp的化学计量反应分离Cp 3 ZrCl ，但是形成类似的Hf络合物会因配体的重新分布而变得复杂。这两种复合物的局部晶体学分析表明可能的结构差异，其中所述的Zr配合物具有三个η 5的Cp配体（“ 3 - 5 ”的结构），而HF络合物具有两个η 5的Cp配体和一个η 1的Cp配体（“2 - 5，1 - 1 ”结构）。C 5 H 4 CH 3（MeCp）的使用简化了适当晶体的合成和获取。一个数Zr和Hf的MECP配合物的制备与（MECP）的晶体学表征沿着报道3的HfCl，其具有2 - 5，1 - 1结构和（MECP）4的Zr，其具有3 - 5，1 - 1结构。

  DOI：

  10.1016/j.poly.2013.03.007
• 作为产物：
  描述：

  甲基环戊二烯 在 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 (η5-methylcyclopentadienyl)sodium
  参考文献：
  名称：

  [EN] MOLYBDENUM ALLYL COMPLEXES AND USE THEREOF IN THIN FILM DEPOSITION
  [FR] COMPLEXES DE MOLYBDÈNE D'ALLYLE ET LEUR UTILISATION EN DÉPÔT DE FILM MINCE

  摘要：

  本文提供了钼配合物及其在薄膜沉积中的应用，如CVD和ALD。钼配合物在结构上对应于式（I）和式（II），其中R1、R3、R5、R7、R8和R10在每次出现时独立地为烷基；R2、R6和R9独立地为烷基；R4和R11在每次出现时独立地选择自烷基、烯烃和炔烃的基团中的一种；x、z、a、c、d和f独立地为零、1或2；y、b和e独立地为零或1；n和m独立地为零至5。

  公开号：

  WO2013112383A1

文献信息

• Cobalt(I) Olefin Complexes: Precursors for Metal–Organic Chemical Vapor Deposition of High Purity Cobalt Metal Thin Films
  作者：Jeff A. Hamilton、Thomas Pugh、Andrew L. Johnson、Andrew J. Kingsley、Stephen P. Richards

  DOI：10.1021/acs.inorgchem.6b01146

  日期：2016.7.18

  cobalt metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) precursors. Atmospheric pressure MOCVD was employed using precursor 1, to synthesize thin films of metallic cobalt on silicon substrates under an atmosphere (760 torr) of hydrogen (H2). Analysis of the thin films deposited at substrate temperatures of 325, 350, 375, and 400 °C, respectively, by scanning electron microscopy and atomic force microscopy

  我们报告了基于环戊二烯基和二烯配体的有机金属钴（I）金属前体家族的合成和表征。描述了通过单晶X射线衍射分析确定的环戊二烯基-钴（I）二烯烃配合物的分子结构。配合物的热重分析和热稳定性研究强调了异戊二烯，二甲基丁二烯，和环己二烯衍生物[（C 5 H ^ 5）的Co（η 4 -CH 2 CHC（Me）的CH 2）]（1），[（C 5 ħ 5）的Co（η 4 -CH 2 C（Me）的C（Me）的CH 2）]（2），和[（C 5 H ^ 5）的Co（η 4 -C 6 H ^ 8）]（4）尽可能钴金属有机化学气相沉积（MOCVD）的前体。使用前驱体1进行大气压MOCVD ，以在氢气（H 2）（760托）下在硅衬底上合成金属钴薄膜。）。分别通过扫描电子显微镜和原子力显微镜对分别在325、350、375和400°C的基板温度下沉积的薄膜进行分析，揭示了与温度有关的生长特征。在这些温度下生长的薄膜是连续的
• Yttrium Complexes of Arsine, Arsenide, and Arsinidene Ligands
  作者：Thomas Pugh、Andrew Kerridge、Richard A. Layfield

  DOI：10.1002/anie.201500173

  日期：2015.3.27

  yttrium–arsine complex [Cp′3YAs(H)2Mes}] (1) (Cp′=η5‐C5H4Me, Mes=mesityl) by nBuLi produces the μ‐arsenide complex [Cp′2Y[μ‐As(H)Mes]}3] (2). Deprotonation of the AsH bonds in 2 by nBuLi produces [Li(thf)4]2[Cp′2Y(μ3‐AsMes)}3Li], [Li(thf)4]2[3], in which the dianion 3 contains the first example of an arsinidene ligand in rare‐earth metal chemistry. The molecular structures of the arsine, arsenide,

  n BuLi对钇-胂络合物 [Cp′ 3 YAs(H) 2 Mes}] ( 1 ) (Cp′=η 5 ‐C 5 H 4 Me, Mes=mesityl) 去质子化产生 μ-砷化物络合物[Cp′ 2 Y[μ-As(H)Mes]} 3 ] ( 2 )。n BuLi对2中的As  H 键去质子化产生 [Li(thf) 4 ] 2 [Cp′ 2 Y(μ 3 ‐AsMes)} 3 Li], [Li(thf) 4 ] 2 [ 3 ],其中二价阴离子3包含稀土金属化学中第一个砷化烯配体。描述了砷化氢、砷化物和砷化烯配合物的分子结构，并通过密度泛函理论分析了钇-砷键。
• Bridged and Unbridged Nickel–Nickel Bonds Supported by Cyclopentadienyl and Phosphine Ligand Sets
  作者：Peter A. Cleaves、Alexander J. Ayres、Lisa Vondung、John C. Stewart、Philip J. Cobb、Ashley J. Wooles、Stephen T. Liddle

  DOI：10.1021/acs.organomet.0c00708

  日期：2020.12.28

  A series of Ni complexes [Ni(Cl)2(PR3)2] with R = Me (1-Me), nPr (1-nPr), and nBu (1-nBu) and nickelocenes [Ni(η5-C5H4R′)2] with R′ = H (2-H), Me (2-Me), and SiMe3 (2-SiMe3) were synthesized and characterized. From these complexes, the synthesis of the Ni complexes [NiCl(PR3)(η5-C5H4R′)] R = Me, R′ = H (3-Me), R= nBu, R′ = H (3-nBu), R = nPr, R′ = H (3-nPr), R = Et, R′ = Me (4), and R = Et, R′ = SiMe3

  一系列Ni络合物[Ni（Cl）2（PR 3）2 ]，其中R = Me（1-Me），n Pr（1- n Pr）和n Bu（1- n Bu）和全新世[Ni（ η 5 -C 5 H ^ 4 R'）2 ]其中R'= H（2-H ）中，Me（2-ME），和森达3（2-森达3）的合成和表征。从这些配合物，镍配合物的合成[的NiCl（PR 3）（η 5 -C 5 H ^4 R'）] R = Me，R'= H（3-Me），R = n Bu，R'= H（3- n Bu），R = n Pr，R'= H（3- n Pr） ，R ＝ Et，R′＝ Me（4），并且R ＝ Et，R′＝ SiMe 3（5）。所有配合物均得到充分表征，包括单晶X射线晶体学。配合物3-R ，4，和5然后用来获得homobimetallic镍配合物的非桥连镍Ni键[镍（η罕见例子5 -C 5 H ^ 5）（PR 3）} 2]，其中R =我（7-ME）和R
• Electron delocalization in paramagnetic metallocenes. I. Nuclear magnetic resonance contact shifts
  作者：Michael F. Rettig、Russell S. Drago

  DOI：10.1021/ja01034a017

  日期：1969.3
• Graham, Philip B.; Rausch, Marvin D.; Täschler, Karl, Organometallics, 1991, vol. 10, # 9, p. 3049 - 3052
  作者：Graham, Philip B.、Rausch, Marvin D.、Täschler, Karl、Von Philipsborn, Wolfgang

  DOI：——

  日期：——