3-{[1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-decafluoro-6-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methoxy}-1-adamantyl methacrylate | 1005454-09-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: 3-{[1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-decafluoro-6-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methoxy}-1-adamantyl methacrylate
• 英文别名: [3-[[1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-Decafluoro-6-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methoxy]-1-adamantyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1005454-09-0
• 化学式: C₂₂H₂₄F₁₀O₄
• 分子量: 542.414
• InChiKey: XELJJTKZMJZFPA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  14

文献信息

• POLYMERIZABLE COMPOUND HAVING ADAMANTANE STRUCTURE, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE SAME, AND RESIN COMPOSITION
  申请人：Idemitsu Kosan Co., Ltd.

  公开号：EP2048128A1

  公开（公告）日：2009-04-15

  A polymerizable compound having a fluorinated substituent (Z) represented by the general formula (1), an adamantane structure and a polymerizable group (A) having the structure represented by the general formula (1), a production method thereof, and a photoresist composition, a thermocurable resin composition and a photocurable resin composition containing a polymer obtained using the polymerizable compound are provided. Use of the polymerizable compound with the adamantane structure and a resin composition thereof in the present invention provides in the field of photolithography the effect of preventing a liquid immersion medium from penetration and improving dry etching resistance in a liquid immersion exposure method as well as reducing adhesion to a mold and improving dry etching resistance in a nanoimprint method.

  提供了一种具有氟代取代基（Z）的可聚合化合物，其由通式（1）表示，具有金刚烷结构和聚合物化基团（A），其由通式（1）表示，以及其生产方法，以及包含使用聚合物得到的光刻胶组成、热固性树脂组成和光固性树脂组成的光聚合树脂组成。本发明中使用具有金刚烷结构的可聚合化合物和其树脂组成物在光刻领域中提供了防止液体浸润介质渗透和提高液体浸润曝光方法中的干法蚀刻抵抗性的效果，以及在纳米压印方法中减少对模具的粘附并提高干法蚀刻抵抗性的效果。