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(1S,5S)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene | 1029320-58-8

中文名称
——
中文别名
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英文名称
(1S,5S)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene
英文别名
——
(1S,5S)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene化学式
CAS
1029320-58-8
化学式
C16H22N2
mdl
——
分子量
242.364
InChiKey
IUTUYCGTHOIWEZ-GOEBONIOSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.53
  • 重原子数:
    18.0
  • 可旋转键数:
    3.0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    15.27
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    2.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (1S,5S)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene4-(氯甲基)-N,N-二乙基苯甲酰胺四丁基碘化铵potassium carbonate 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 9.0h, 以40%的产率得到(+)-4-N,N-diethyl-4-{[(1S,5S)-4-phenyl-8-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]nonane-3-en-6-yl]methyl}benzamide
    参考文献:
    名称:
    具有分离的苯甲基基团部分的双环SNC80类似物的合成和药理学评估。
    摘要:
    通过分子建模研究指导,将δ阿片受体激动剂SNC80的药效学上的苯甲基部分分离,并将两个苯基残基连接到构象受限的6,8-二氮杂双环[3.2.2]壬烷骨架的不同位置,以发现新的δ激动剂。手性库合成中的关键反应步骤是通过狄克曼对烯丙基和丙基衍生物6和7的狄克曼类似的环化作用来建立三个碳桥,从而分别得到混合的甲基甲硅烷基乙缩醛8和9。立体选择性格氏反应,脱水和药效基团(N,N-二乙基氨基甲酰基苄基)残基的引入导致设计的δ受体激动剂3,ent-3和20在双环骨架中具有双键。用甲酸铵和Pd / C进行烯丙基衍生物14的氢化,得到饱和的配体24a和24b。用RhCl(3)除去烯丙基取代基,环系统的氢化和烯丙基部分的重新连接提供了烯丙基衍生物4a和4b。在用放射性配体[(3)H] -deltorphine II进行的受体结合研究中,只有ent-3表现出可观的δ受体亲和力(K(i)= 740 nM)。由于e
    DOI:
    10.1016/j.bmc.2008.01.004
  • 作为产物:
    描述:
    (+)-(1S,5S)-8-(4-methoxybenzyl)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene三氟乙酸 作用下, 反应 16.0h, 以96%的产率得到(1S,5S)-2-phenyl-6-propyl-6,8-diazabicyclo[3.2.2]non-2-ene
    参考文献:
    名称:
    具有分离的苯甲基基团部分的双环SNC80类似物的合成和药理学评估。
    摘要:
    通过分子建模研究指导,将δ阿片受体激动剂SNC80的药效学上的苯甲基部分分离,并将两个苯基残基连接到构象受限的6,8-二氮杂双环[3.2.2]壬烷骨架的不同位置,以发现新的δ激动剂。手性库合成中的关键反应步骤是通过狄克曼对烯丙基和丙基衍生物6和7的狄克曼类似的环化作用来建立三个碳桥,从而分别得到混合的甲基甲硅烷基乙缩醛8和9。立体选择性格氏反应,脱水和药效基团(N,N-二乙基氨基甲酰基苄基)残基的引入导致设计的δ受体激动剂3,ent-3和20在双环骨架中具有双键。用甲酸铵和Pd / C进行烯丙基衍生物14的氢化,得到饱和的配体24a和24b。用RhCl(3)除去烯丙基取代基,环系统的氢化和烯丙基部分的重新连接提供了烯丙基衍生物4a和4b。在用放射性配体[(3)H] -deltorphine II进行的受体结合研究中,只有ent-3表现出可观的δ受体亲和力(K(i)= 740 nM)。由于e
    DOI:
    10.1016/j.bmc.2008.01.004
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