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| 1416449-74-5

中文名称
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中文别名
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英文名称
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英文别名
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化学式
CAS
1416449-74-5
化学式
C22H42CoN4
mdl
——
分子量
421.595
InChiKey
FUMAVXSDYTYHPE-MYYVLAFRSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
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  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    N,N'-二异丙基乙烷-1,2-二亚胺四氢呋喃乙二醇二甲醚 为溶剂, 反应 48.0h, 生成
    参考文献:
    名称:
    [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND, PREPARING METHOD OF THE SAME, AND PREPARING METHOD OF THIN FILM USING THE SAME
    [FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE, PROCÉDÉ POUR LE PRÉPARER, ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN FILM MINCE L'EMPLOYANT
    摘要:
    本公开涉及一种有机金属化合物、其制备方法以及利用该化合物制备金属含量薄膜的制备方法。
    公开号:
    WO2012176988A1
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文献信息

  • [EN] A DIAMINE COMPOUND OR ITS SALT, PREPARING METHOD OF THE SAME, AND USES OF THE SAME<br/>[FR] COMPOSÉ DIAMINE OU SON SEL, PROCÉDÉ POUR LE PRÉPARER, ET SES UTILISATIONS
    申请人:UP CHEMICAL CO LTD
    公开号:WO2012176989A1
    公开(公告)日:2012-12-27
    The present disclosure relates to a diamine compound or its salt having utility for preparing an organometallic compound suitable for vapor phase deposition processes such as a chemical vapor deposition (CVD) method or an atomic layer deposition (ALD) method.
    本公开涉及一种二胺化合物或其盐,其用于制备适用于气相沉积工艺的有机属化合物,如化学气相沉积(CVD)方法或原子层沉积(ALD)方法。
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