Si tetraazide | 27890-58-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属有机物
• 英文名称: Si tetraazide
• 英文别名: silicon tetrazide；Silicon tetraazide；tetraazidosilane
• CAS: 27890-58-0
• 化学式: N₁₂Si
• 分子量: 196.166
• InChiKey: SZJFGTWFLXTOHF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.66
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  57.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Si tetraazide 、 氮气 以 solid matrix 为溶剂， 生成 diazasilene
  参考文献：
  名称：

  硅原子与氮的反应：矩阵光谱和密度泛函理论的综合研究1

  摘要：

  热生成的硅原子与过量的氮在12 K时发生共缩合，从而获得了新的二元硅氮化合物。除了公知的线性dinitrogensilicon，SINN（1-T ），含一个（六个新物种2，3）或两个硅原子（4 - 7）已被分离，并通过矩阵光谱和它们的相互光化学转换标识。新化合物的结构解析2 - 7是基于同位素标记实验和密度泛函理论计算。

  DOI：

  10.1021/om000234r
• 作为产物：
  描述：

  bis(bis(triphenylphophiniminium))hexaazidosilicate 320.0 ℃ 、0.1 Pa 条件下， 生成 Si tetraazide
  参考文献：
  名称：

  [DE] SILICIUMPOLYAZIDE UND VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG
  [EN] SILICON POLYAZIDES AND A METHOD FOR THEIR PRODUCTION
  [FR] POLYAZIDES DE SILICIUM ET PROCEDE POUR LES PRODUIRE

  摘要：

  本发明涉及一般式（I）的硅氮化物聚合物（K +）n [L2-nSi（N3）4 + n]（n） - 其中n取值为0或2，L代表N-杂环，K代表碱金属，NH4或ER4，其中E代表N，P，As或Sb，R代表n-或异构烷基或苯基，以及其制备方法。制备方法是在溶剂存在下，首先将四氯化硅与一般式K'（N3）（II）的化合物反应，其中K'是阳离子，特别是碱金属离子，铵离子或取代铵或磷酸盐离子，然后加入一种或多种具有中性或碱性阴离子的单齿或多齿配体L，其中L代表N-杂环，二胺或聚醚，或直接将四氯化硅与一般式（ER4）+（N3）-（III）的化合物反应，以直接制备（I），其中E代表N，P，As或Sb，R代表n-或异构烷基或苯基，且烷基含有1至5个碳原子。使用新的硅氮化物聚合物以及其制备方法可以减少或消除高氮含量的硅氮化物化合物的热稳定性和冲击敏感性，从而实现这些化合物的经济制备和使用。

  公开号：

  WO2003102002A1

文献信息

• Neutral Lewis Base Adducts of Silicon Tetraazide
  作者：Peter Portius、Alexander C. Filippou、Gregor Schnakenburg、Martin Davis、Klaus-Dieter Wehrstedt

  DOI：10.1002/anie.201001826

  日期：2010.10.18

  Highly energetic and still stable: The first base adducts of silicon tetraazide, Si(N3)4(L2) (L2=bipyridine, 1,10‐phenanthroline), were prepared and fully characterized (picture: the ball and stick model of the adduct with L2=2,2'‐bipyridine in front of its FTIR spectrum; dark gray C, white H, light gray Si, blue N). The highly energetic compounds combine a remarkable thermal stability, with a high

  高能且仍然稳定：制备了四叠氮化硅的第一碱加合物Si（N 3）4（L 2）（L 2 =联吡啶，1,10-菲咯啉），并进行了充分表征（图片：球形和棒状模型）FTIR谱前的L 2 = 2,2'-联吡啶的加合物；深灰色C，白色H，浅灰色Si，蓝色N）。高能化合物具有出色的热稳定性，高活性氮含量（高达48％）和便捷的可及性。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Na: SVol.3, 1.2.3, page 907 - 911
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Wieberg, E.; Michaud, H., Zeitschrift fur Naturforschung, 1954, vol. 9b, p. 500
  作者：Wieberg, E.、Michaud, H.

  DOI：——

  日期：——
• Reactions of Silicon Atoms with Nitrogen:  A Combined Matrix Spectroscopic and Density Functional Theory Study¹
  作者：Günther Maier、Hans Peter Reisenauer、Jörg Glatthaar

  DOI：10.1021/om000234r

  日期：2000.11.1

  Cocondensation of thermally generated silicon atoms with an excess of nitrogen at 12 K offers an access to new binary silicon−nitrogen compounds. In addition to the well-known linear dinitrogensilicon, SiNN (1-T), six new species containing one (2, 3) or two silicon atoms (4−7) have been isolated and identified by matrix spectroscopy and their mutual photochemical transformations. The structural elucidation

  热生成的硅原子与过量的氮在12 K时发生共缩合，从而获得了新的二元硅氮化合物。除了公知的线性dinitrogensilicon，SINN（1-T ），含一个（六个新物种2，3）或两个硅原子（4 - 7）已被分离，并通过矩阵光谱和它们的相互光化学转换标识。新化合物的结构解析2 - 7是基于同位素标记实验和密度泛函理论计算。
• [DE] SILICIUMPOLYAZIDE UND VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG<br/>[EN] SILICON POLYAZIDES AND A METHOD FOR THEIR PRODUCTION<br/>[FR] POLYAZIDES DE SILICIUM ET PROCEDE POUR LES PRODUIRE
  申请人：UNIV BERLIN HUMBOLDT

  公开号：WO2003102002A1

  公开（公告）日：2003-12-11

  Die Erfindung betrifft Siliciumpolyazide der allgemeinen Formel (I) (K+)n[L2-nSi(N3) 4+n] (n)- wobei n die Werte 0 oder 2 annimmt, L für N-Heterocyclen, K für Alkalimetalle, NH4 oder ER4 steht, wobei E N, P, As oder Sb und R n- oder iso-Alkylgruppen oder Phenylgruppen repräsentieren, und Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Herstellung erfolgt dadurch, dass Siliciumtetrachlorid in Gegenwart von einem Lösungsmittel zunächst mit einer Verbindung der allgemeinen Formel K'(N3) (II) wobei K' ein Kation, insbesondere ein Alkalimetallion, Ammonium-, bzw. ein substituiertes Ammonium- oder Phosphonium-Ion ist, umgesetzt wird und danach mit ein- oder mehrzähnigen, neutralen oder basisch anionischen Liganden L versetzt wird, wobei L für N-Heterocyclen, Diamine oder Polyether steht oder dass Siliciumtetrachlorid mit Verbindungen der allgemeinen Formel (ER4)+(N3) - (III) direkt zu (I) umgesetzt wird,wobei E N, P, As oder Sb und R n- oder iso-Alkylgruppen oder Phenylgruppen repräsentieren und die Alkylgruppen 1 bis 5 C-Atome aufweisen. Mit den neuen Siliciumpolyaziden sowie den Verfahren zu ihrer Herstellung wird die thermische Instabilität sowie die Schocksensitivität von chemischen Verbindungen aus der Stoffklasse der Siliciumpolyazide mit hohen Stickstoffgehalten vermindert oder beseitigt und so eine wirtschaftliche Herstellung und Verwendung dieser Verbindungen zu ermöglicht.

  本发明涉及一般式（I）的硅氮化物聚合物（K +）n [L2-nSi（N3）4 + n]（n） - 其中n取值为0或2，L代表N-杂环，K代表碱金属，NH4或ER4，其中E代表N，P，As或Sb，R代表n-或异构烷基或苯基，以及其制备方法。制备方法是在溶剂存在下，首先将四氯化硅与一般式K'（N3）（II）的化合物反应，其中K'是阳离子，特别是碱金属离子，铵离子或取代铵或磷酸盐离子，然后加入一种或多种具有中性或碱性阴离子的单齿或多齿配体L，其中L代表N-杂环，二胺或聚醚，或直接将四氯化硅与一般式（ER4）+（N3）-（III）的化合物反应，以直接制备（I），其中E代表N，P，As或Sb，R代表n-或异构烷基或苯基，且烷基含有1至5个碳原子。使用新的硅氮化物聚合物以及其制备方法可以减少或消除高氮含量的硅氮化物化合物的热稳定性和冲击敏感性，从而实现这些化合物的经济制备和使用。