hexamethyleneiminium hexamethyleneiminothiocarbamate | 53563-25-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氮杂环庚烷
• 英文名称: hexamethyleneiminium hexamethyleneiminothiocarbamate
• 英文别名: Azepane-1-carbothioate;azepan-1-ium；azepane-1-carbothioate;azepan-1-ium
• CAS: 53563-25-0
• 化学式: C₆H₁₃N*C₇H₁₃NOS
• 分子量: 258.428
• InChiKey: VUNVWZVTHKHJDV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.65
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  37.9
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexamethyleneiminium hexamethyleneiminothiocarbamate 以 氯仿 为溶剂， 生成 环己亚胺 、 羰基硫
  参考文献：
  名称：

  Savin, V. P.; Talzi, V. P.; Bek, N. O., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1984, vol. 20, p. 1680 - 1688

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  环己亚胺 、 一氧化碳 在 potassium carbonate 、 sulfur 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 5.0h， 生成 hexamethyleneiminium hexamethyleneiminothiocarbamate
  参考文献：
  名称：

  通过一氧化碳和硫将胺羰基化来实际合成S-烷基硫代氨基甲酸酯除草剂

  摘要：

  已经开发了胺与一氧化碳和硫的工业和经济羰基化，以合成硫代氨基甲酸酯的S-烷基除草剂。在碳酸钾和DMSO溶剂存在下，在温和的条件下（1 atm，20°C）由胺，一氧化碳，硫和烷基卤化物以优异的收率合成S-烷基硫代氨基甲酸酯，例如硫代苯甲酸酯和邻苯甲酸酯（除草剂） 。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2004.01.060

文献信息

• 半導体ウェーハ用研磨組成物
  申请人：東芝セラミックス株式会社

  公开号：JP2006100713A

  公开（公告）日：2006-04-13

  【課題】研磨材中のみならずドーピング剤中の金属原子による半導体ウェーハの汚染をも効果的に防止し得る半導体ウェーハ用研磨組成物の提供。【解決手段】水、粒状アモルファスシリカ、及び水溶性キレート剤を含有し、且つアルカリ性化合物によってｐＨ９．０以上に調整されてなる半導体ウェーハ用研磨組成物において、前記水溶性キレート剤が、ピロリジンジチオカルバミン酸アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミン酸アンモニウム、及びヘキサメチレンアンモニウムヘキサメチレンチオカルバマートから選ばれる１種類以上である。【選択図】なし

  问题在于提供一种用于半导体晶片的抛光组合物，它能有效防止掺杂剂中的金属原子以及研磨材料中的金属原子污染半导体晶片。该组合物含有水、颗粒状无定形二氧化硅和水溶性螯合剂，并用碱性化合物调节 pH 值至 9.0 或以上，其中所述水溶性螯合剂包括吡咯烷二硫代氨基甲酸铵、N,N-二乙基二硫代氨基甲酸铵和六亚甲基硫代氨基甲酸铵中的一种或多种。无。
• Glazyrin; Denisov; Talzi, Journal of applied chemistry of the USSR, 1985, vol. 58, # 10 pt 2, p. 2129 - 2132
  作者：Glazyrin、Denisov、Talzi、Imashev

  DOI：——

  日期：——