1-[2-[2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy]ethyl]piperidine | 401599-62-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: 1-[2-[2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy]ethyl]piperidine
• CAS: 401599-62-0
• 化学式: C₁₂H₂₅NO₃
• 分子量: 231.335
• InChiKey: DCAGWWNMVMGEHE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  30.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-[2-[2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy]ethyl]piperidine 在 Amberlyst A₂₆ hydroxide form 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 38.0h， 生成 N-ethyl N-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)ethylpiperidinium acetate
  参考文献：
  名称：

  PEG-functionalized ionic liquids for cellulose dissolution and saccharification

  摘要：

  纤维素溶解型离子液体（IL）已成为在生产乙醇燃料的纤维素生物质预处理过程中一种强有力的新型溶剂。然而，使用当前的离子溶剂（特别是咪唑盐类）在大规模应用时面临诸多挑战，包括成本和粘度较高、生物降解性不佳等问题。为了克服这些障碍，我们合成了一系列新型聚乙二醇（PEG）功能化的离子液体，这些离子液体采用廉价烷基铵或哌啶鎓阳离子与乙酸阴离子配对。其中一些新型离子液体能够溶解高达8-12 wt% 的纤维素，并且在所需的工艺温度下表现出低粘度和可接受的耐热性。通过XRD和SEM数据进一步证实，这些PEG化的离子液体对纤维素的再生预处理能够有效将纤维素I结构转变为纤维素II，从而降低纤维素的结晶度并增强结构均匀性。最令人兴奋的是，从这些离子液体中再生出的纤维素可以快速水解为葡萄糖，在添加了β-葡萄糖苷酶的商业纤维酶作用下，2小时后葡萄糖产率可达约90%。

  DOI：

  10.1039/c2gc35631g
• 作为产物：
  描述：

  三甘醇单甲醚 在 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 1-[2-[2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy]ethyl]piperidine
  参考文献：
  名称：

  PEG-functionalized ionic liquids for cellulose dissolution and saccharification

  摘要：

  纤维素溶解型离子液体（IL）已成为在生产乙醇燃料的纤维素生物质预处理过程中一种强有力的新型溶剂。然而，使用当前的离子溶剂（特别是咪唑盐类）在大规模应用时面临诸多挑战，包括成本和粘度较高、生物降解性不佳等问题。为了克服这些障碍，我们合成了一系列新型聚乙二醇（PEG）功能化的离子液体，这些离子液体采用廉价烷基铵或哌啶鎓阳离子与乙酸阴离子配对。其中一些新型离子液体能够溶解高达8-12 wt% 的纤维素，并且在所需的工艺温度下表现出低粘度和可接受的耐热性。通过XRD和SEM数据进一步证实，这些PEG化的离子液体对纤维素的再生预处理能够有效将纤维素I结构转变为纤维素II，从而降低纤维素的结晶度并增强结构均匀性。最令人兴奋的是，从这些离子液体中再生出的纤维素可以快速水解为葡萄糖，在添加了β-葡萄糖苷酶的商业纤维酶作用下，2小时后葡萄糖产率可达约90%。

  DOI：

  10.1039/c2gc35631g

文献信息

• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100099042A1

  公开（公告）日：2010-04-22

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 2 -C 20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为具有环状结构的C2-C20烃基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了一种包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• SULFONIUM SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, PHOTOMASK BLANK, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100143830A1

  公开（公告）日：2010-06-10

  A sulfonium salt has formula (1) wherein R 1 is a monovalent hydrocarbon group except vinyl and isopropenyl, R 2 , R 3 , and R 4 are alkyl, alkenyl, oxoalkyl, aryl, aralkyl or aryloxoalkyl or may bond together to form a ring with the sulfur atom, and n is 1 to 3. A chemically amplified resist composition comprising the sulfonium salt is capable of forming a fine feature pattern of good profile after development due to high resolution, improved focal latitude, and minimized line width variation and profile degradation upon prolonged PED.

  一种硫铵盐的化学式为（1），其中R1是一种一价碳氢基团，但不包括乙烯基和异丙烯基，R2、R3和R4是烷基、烯基、氧代烷基、芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或者它们可以相互连接形成与硫原子的环，并且n为1至3。包含该硫铵盐的化学增感抗剂组合物能够由于高分辨率、改善的焦距宽度、以及在长时间PED后最小化线宽变化和剖面降解而形成良好剖面的精细特征图案。
• PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20110003247A1

  公开（公告）日：2011-01-06

  The photoacid generator produces a sulfonic acid which has a bulky cyclic structure in the sulfonate moiety and a straight-chain hydrocarbon group and thus shows a controlled acid diffusion behavior and an adequate mobility. The PAG is fully compatible with a resin to form a resist composition which performs well during the device fabrication process and solves the problems of resolution, LWR, and exposure latitude.

  照片酸发生剂会产生一种含有笨重环状结构的磺酸基团和直链碳氢基团的磺酸，因此表现出受控的酸扩散行为和适度的活性。该PAG与树脂完全兼容，形成一个抗蚀剂组合物，在器件制造过程中表现良好，并解决了分辨率、LWR和曝光容限等问题。
• NOVEL SULFONATE AND ITS DERIVATIVE, PHOTOSENSITIVE ACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100209827A1

  公开（公告）日：2010-08-19

  There is disclosed a sulfonate shown by the following general formula (2). R 1 —COOC(CF 3 ) 2 —CH 2 SO 3 − M + (2) (In the formula, R 1 represents a linear, a branched, or a cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms optionally containing a hetero atom. M + represents a cation.) There can be provided: a novel sulfonate which is effective for a chemically amplified resist composition having a sufficiently high solubility (compatibility) in a resist solvent and a resin, a good storage stability, a PED stability, a further wider depth of focus, a good sensitivity, in particular a high resolution and a good pattern profile form; a photosensitive acid generator; a resist composition using this; a photomask blank, and a patterning process.

  本发明揭示了一种磺酸盐，其通式如下（2）所示。 R1-COOC（CF3）2-CH2SO3-M+（2）（其中，R1表示具有1至50个碳原子的线性、分支或环状单价碳氢基团，可选含有杂原子。M+表示一个阳离子）。本发明可以提供：一种新型磺酸盐，其在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性），良好的储存稳定性，PED稳定性，进一步扩大焦点深度，良好的灵敏度，特别是高分辨率和良好的图案轮廓形态；一种光敏酸发生剂；使用该组合物的抗蚀剂组合物；一种光掩膜空白，以及一种制图工艺。
• NOVEL SULFONIUM SALT, POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20110189607A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R 2 and R 3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R 2 and R 3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

  本发明公开了一种由下列通式（1）表示的烷基磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的单价碳氢基团，可选地含有一个杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子一起形成环。可以提供一种可用作抗蚀剂组分的烷基磺鎵盐，该抗蚀剂组分在使用高能束如ArF准分子激光、EUV光和电子束作为光源的光刻工艺中，提供高分辨率和优异的LER，以及从该烷基磺鎵盐得到的聚合物、包含该聚合物的抗蚀剂组分和使用该抗蚀剂组分进行图案化处理的方法。