1.2.3.4.5.6-Hexafluor-cyclohexan | 22060-80-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: 1.2.3.4.5.6-Hexafluor-cyclohexan
• 英文别名: cis-1,2,3,4,5,6-Hexafluorocyclohexane；1,2,3,4,5,6-hexafluorocyclohexane
• CAS: 22060-80-6
• 化学式: C₆H₆F₆
• 分子量: 192.104
• InChiKey: PQJGSPVYVGXTJW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  132.8±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.32±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1.2.3.4.5.6-Hexafluor-cyclohexan 、 四丁基碘化铵 以 氘代丙酮 、 二氯甲烷-D2 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  溶液和固态中全顺式六氟 环己烷的阴离子结合证据†

  摘要：

  我们报告了溶液NMR和X射线晶体学研究的全顺式1,2,3,4,5,6-六氟环己烷的阴离子亲和力，这直到最近才可以合成使用。我们的研究结果表明，表现出相互作用优惠1：1个化学计量，而其强度仅为中等（例如ķ一个= 400米-1在丙酮中氯- ）和主要取决于阴离子的大小和溶剂的介电常数。

  DOI：

  10.1039/c8cc01797b

文献信息

• COMPOSITION HAVING REFRACTIVE INDEX SENSITIVELY CHANGEABLE BY RADIATION AND METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1235104A1

  公开（公告）日：2002-08-28

  A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a lower refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing the composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion are decomposed and a refractive index difference is made between the exposed portion and unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.

  一种对辐射敏感的折射率变化组合物，包括：（A）可分解化合物；（B）折射率低于可分解化合物（A）的不可分解化合物；（C）对辐射敏感的分解剂；以及（D）稳定剂。通过图案掩膜将组合物暴露在辐射下，暴露部分的上述成分（C）和（A）被分解，暴露部分和未暴露部分之间产生折射率差，从而形成具有不同折射率的图案。
• Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1323742A2

  公开（公告）日：2003-07-02

  A radiation sensitive refractive index changing composition whose refractive index of a material is changed by a simple method, whose changed refractive index difference is sufficiently large, and which can provide a stable refractive index pattern and a stable optical material regardless of their use conditions. The radiation sensitive refractive index changing composition comprises (A) a polymerizable compound, (B) a non-polymerizable compound having a lower refractive index than the polymer of the polymerizable compound (A), and (C) a radiation sensitive polymerization initiator.

  一种辐射敏感折射率改变组合物，其材料的折射率可通过简单的方法改变，改变后的折射率差足够大，并且无论使用条件如何，都能提供稳定的折射率图案和稳定的光学材料。 辐射敏感折射率变化组合物包括：(A) 可聚合化合物；(B) 折射率低于可聚合化合物 (A) 聚合物的不可聚合化合物；(C) 辐射敏感聚合引发剂。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CHANGING IN REFRACTIVE INDEX AND METHOD OF CHANGING REFRACTIVE INDEX
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1350814A1

  公开（公告）日：2003-10-08

  A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a higher refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) astabilizer. By exposing this composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion decompose to create a refractive index difference between the exposed portion and an unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.

  一种对辐射敏感的折射率变化组合物，包括：(A) 可分解化合物；(B) 折射率高于可分解化合物(A)的不可分解化合物；(C) 对辐射敏感的分解剂；(D) 稳定剂。通过图案掩膜将这种组合物暴露在辐射下，暴露部分的上述成分（C）和（A）分解，在暴露部分和未暴露部分之间产生折射率差，从而形成具有不同折射率的图案。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CAPABLE OF HAVING REFRACTIVE INDEX DISTRIBUTION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1369459A1

  公开（公告）日：2003-12-10

  A method of forming a refractive index pattern or an optical material stable regardless of use conditions, which provides a sufficiently large change in refractive index by a simple method. The refractive index pattern or optical material is formed by exposing a refractive index changing composition which comprises (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound containing inorganic oxide particles and (C) a radiation sensitive decomposer to radiation and then treating it with (D) a stabilizer.

  一种形成折射率图案或光学材料的方法，无论使用条件如何，它都能保持稳定，并能通过简单的方法提供足够大的折射率变化。 折射率图案或光学材料的形成方法是：将由 (A) 可分解化合物、(B) 含无机氧化物颗粒的不可分解化合物和 (C) 辐射敏感分解物组成的折射率变化组合物暴露于辐射中，然后用 (D) 稳定剂处理。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CHANGING IN REFRACTIVE INDEX AND UTILIZATION THEREOF
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1375597A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A composition whose refractive index of a material is changed by a simple method, which can have a sufficiently large refractive index difference, and which provides a stable refractive index pattern and an optical material irrespective of their use conditions and a method for forming the refractive index pattern and the optical material. The above composition comprises (A) a decomposable compound, (B) a hydrolyzate of an alkoxide such as tetrabutoxytitanium, tetramethoxyzirconium, tetramethoxygermanium or tetramethoxysilane, or a halogen compound such as tetrachlorosilane and (C) a radiation sensitive decomposer and is sensitive to radiation.

  一种用简单的方法改变材料折射率的组合物，它能有足够大的折射率差，并能提供稳定的折射率图案和光学材料而不受使用条件的影响，以及形成折射率图案和光学材料的方法。 上述组合物包括：(A) 可分解化合物；(B) 四丁氧基钛、四甲氧基锆、四甲氧基锗或四甲氧基硅烷等烷氧基化合物或四氯硅烷等卤素化合物的水解物；(C) 对辐射敏感的分解物。