dicyclohexylamide potassium | 72316-23-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: dicyclohexylamide potassium
• 英文别名: potassium dicyclohexylamide；dicyclohexylaminopotassium；potassium;dicyclohexylazanide
• CAS: 72316-23-5
• 化学式: C₁₂H₂₂N*K
• 分子量: 219.412
• InChiKey: RUOKERZPIANWCP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.03
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  邻二甲苯 、 dicyclohexylamide potassium 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 (2-甲基苄基)钾 、 二环己胺
  参考文献：
  名称：

  锂和钾酰胺的最佳免疫

  摘要：

  通过与苄基化合物平衡来确定某些仲胺的硫代和钾代盐的离子对碱性。有了这些基础，就有可能跨越从pK = 27到46的约19 pK单位范围。讨论了热力学以及动力学基础的结构依赖性。推荐用于制备目的的一些新的有效酰胺碱。甲苯的pK值首次通过直接平衡确定。在四氢呋喃中为40.7。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)82054-8
• 作为产物：
  描述：

  lithium dicyclohexylamide 、 potassium tert-butylate 以74%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  LOCHMANN L.; TREKOVAL J., J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979. 179, NO 2, 123-132

  摘要：

  DOI：

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150322027A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A monomer (1) is prepared by reacting a compound (9) with a base or metal to form a metal enolate reagent, and reacting the metal enolate reagent with an acyloxyketone compound (8). A polymer derived from the monomer is used as base resin to formulate a resist composition, which is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness in forming positive pattern via alkaline development and in forming negative pattern via organic solvent development.

  一种单体（1）是通过将一种化合物（9）与碱或金属反应形成金属烯醇盐试剂，然后将金属烯醇盐试剂与一种酰氧基酮化合物（8）反应而制备的。由该单体派生出的聚合物用作基础树脂，以配制一种光刻胶组合物，该组合物在常温下稳定，显示出高溶解对比度、控制的酸性扩散和在碱性显影形成正图案以及有机溶剂显影形成负图案时低粗糙度。
• Method for producing transition metal compounds and their use for the polymerization of olefins
  申请人：——

  公开号：US20030191334A1

  公开（公告）日：2003-10-09

  The invention relates to a method for producing special transition metal compounds, to novel transition metal compounds and to their use for the polymerization of olefins.

  这项发明涉及一种生产特殊过渡金属化合物的方法，新型过渡金属化合物以及它们用于烯烃聚合的用途。
• Novel lactone compounds having alicyclic structure and their manufacturing method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020019545A1

  公开（公告）日：2002-02-14

  Lactone compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. 1 R 1 is H or C 1-6 alkyl, R 2 is H or an acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, Z is a divalent C 1-15 organic group which forms a lactone ring with the carbonyloxy group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  公式（1）的内酯化合物作为单体对于形成基树脂很有用，以用于化学增感光刻胶组合物，适用于微细图案制作。1R1为H或C1-6烷基，R2为H或含有1-15个碳原子的酰基或烷氧羰基基团，可能被卤素原子取代，Z为双价的C1-15有机基团，与羰氧基团形成内酯环，k为0或1，m为0到5之间的整数。
• Non-metallocene compounds, method for the production thereof and use of the same for the polymerisation of olefins
  申请人：——

  公开号：US20040023940A1

  公开（公告）日：2004-02-05

  The invention relates to a method for producing special transition metal compounds, to novel transition metal compounds and to the use of the same for the polymerisation of olefins.

  这项发明涉及一种生产特殊过渡金属化合物的方法，新型过渡金属化合物以及将其用于烯烃聚合的用途。
• ACETAL COMPOUNDS AND THEIR PREPARATION, POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20100136485A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  An acetal compound of formula (1) is provided wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, R 2 is a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 2 and R 3 may together form an aliphatic hydrocarbon ring, and X 1 is a single bond or a divalent C 1 -C 4 hydrocarbon group. A polymer comprising recurring units derived from the acetal compound is used as a base resin to formulate a resist composition which exhibits a high resolution when processed by micropatterning technology, especially ArF lithography.

  提供了一个式为（1）的缩醛化合物，其中R1为H、甲基或三氟甲基，R2为一价的C1-C10烃基，R3和R4为H或一价的C1-C10烃基，R2和R3可能共同形成脂肪烃环，X1为单键或二价的C1-C4烃基。由这种缩醛化合物衍生的重复单位构成的聚合物被用作基础树脂，制备耐光刻蚀性能高的光刻胶组合物，特别适用于微细图案技术处理，尤其是ArF光刻技术。