monoallyl diglycidyl isocyanurate | 69731-45-9

• 物质功能分类: 医药中间体 - 原料药中间体
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三嗪类
• 英文名称: monoallyl diglycidyl isocyanurate
• 英文别名: 1-allyl-3,5-diglycidyl isocyanurate；1-Allyl-3,5-bis(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione；1,3-bis(oxiran-2-ylmethyl)-5-prop-2-enyl-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione
• CAS: 69731-45-9
• 化学式: C₁₂H₁₅N₃O₅
• 分子量: 281.268
• InChiKey: NADYEWVQIJRXJM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  48-49 °C
• 沸点：
  450.7±20.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.448±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.6
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.58
• 拓扑面积：
  86
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

制备方法与用途

应用化合物1,3-双(环氧乙烷基甲基)-5-(2-丙烯基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮可用作有机合成中间体和医药中间体，主要应用于实验室研发过程及化工生产过程中。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  monoallyl diglycidyl isocyanurate 生成 diglycidyl isocyanurate
  参考文献：
  名称：

  ISOCYANURATE EPOXY COMPOUND HAVING ALKOXYSILYL GROUP, METHOD OF PREPARING SAME, COMPOSITION INCLUDING SAME, CURED PRODUCT OF THE COMPOSITION, AND USE OF THE COMPOSITION

  摘要：

  本文披露了一种烷氧基硅化异氰酸酯环氧化合物，其复合材料表现出低CTE和高玻璃转变温度或Tg小于以及其固化产物表现出良好的阻燃性能，以及制备该化合物的方法，包括该化合物的组合物，由该组合物形成的固化产物，以及该组合物的用途。提供了一种具有烷氧基硅基团和环氧基团的异氰酸酯环氧化合物；通过起始材料的环氧化和烷氧基硅化制备环氧化合物的方法；包括环氧化合物的环氧组合物；以及其固化产物和用途。环氧组合物的复合材料在烷氧基团与填料之间以及烷氧基团之间的粘接效率得到改善，并具有良好的耐热性，低CTE和高玻璃转变温度或Tg小于。由环氧组合物形成的固化产物具有良好的阻燃性能。

  公开号：

  US20140308527A1
• 作为产物：
  描述：

  三烯丙基异氰脲酸酯 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 生成 monoallyl diglycidyl isocyanurate
  参考文献：
  名称：

  巯基和环氧基团的质子转移聚合合成双反应性超支化聚合物

  摘要：

  通过硫醇和环氧基的质子转移聚合，提出了一种新的超支化聚合物的合成方法。为此，AB 2合成了带有两个环氧化物和一个硫醇基的单体。这种单体的碱催化质子转移聚合反应导致形成具有65-69％支化度并带有约2％基于二硫键的结构缺陷的聚硫醚基超支化聚合物。该聚合物包含分布在整个支链支架中的两个反应性位点，羟基和环氧化物单元。环氧基可用于通过硫醇-环氧反应锚定烷基，芳基或环氧乙烷链，而聚合和第一次官能化反应过程中产生的羟基可用于将带正电荷的伯铵基团连接到支链上。骨干。

  DOI：

  10.1021/ma500920z

文献信息

• MATERIAL FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, PATTERNING PROCESS, AND COMPOUND
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20210286266A1

  公开（公告）日：2021-09-16

  The present invention is a material for forming an organic film, including: a compound shown by the following general formula (1); and an organic solvent, where in the general formula (1), X represents an organic group with a valency of “n” having 2 to 50 carbon atoms or an oxygen atom, “n” represents an integer of 1 to 10 , and R 1 independently represents any of the following general formulae (2), where in the general formulae (2), broken lines represent attachment points to X, and Q 1 represents a monovalent organic group containing a carbonyl group, at least a part of which is a group shown by the following general formulae (3), where in the general formulae (3), broken lines represent attachment points, X 1 represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms optionally having a substituent when the organic group has an aromatic ring, R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and ** represents an attachment point. An object of the present invention is to provide a material for forming an organic film for forming an organic film having dry etching resistance, and also having high filling and planarizing properties and adhesion to a substrate.

  本发明是一种用于形成有机薄膜的材料，包括：由以下通用式（1）所示的化合物；和有机溶剂，在通用式（1）中，X代表具有2至50个碳原子或一个氧原子的价为“n”的有机基团，“n”表示1到10的整数，R1独立地表示以下通用式（2）中的任何一种，其中在通用式（2）中，虚线表示连接点到X，Q1表示含有羰基的一价有机基团，其中至少部分是以下通用式（3）所示的基团，其中在通用式（3）中，虚线表示连接点，X1表示单键或具有1到20个碳原子的二价有机基团，在有机基团具有芳香环时可选地具有取代基，R2表示氢原子、甲基基团、乙基基团或苯基团，**表示连接点。本发明的目的是提供一种用于形成具有干法刻蚀抗性的有机薄膜的材料，同时具有高填充和平整化性能以及对基底的粘附性。
• Photosensitive resin composition for color filter and uses thereof
  申请人：CHI MEI CORPORATION

  公开号：US09568823B2

  公开（公告）日：2017-02-14

  The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter and uses thereof. The photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a compound (B) containing an ethylenically unsaturated group, a photoinitiator (C), a pigment (D) and an organic solvent (E). The photosensitive resin composition according to the present invention can improve linearity of pattern with high finesse and developing-resistance of the color filter.

  本发明涉及一种用于彩色滤光片的感光树脂组合物及其用途。该感光树脂组合物包括碱溶性树脂（A）、含有乙烯基不饱和基团的化合物（B）、光引发剂（C）、颜料（D）和有机溶剂（E）。根据本发明的感光树脂组合物可以提高图案的线性度，具有高精细度和彩色滤光片的耐显影性。
• MONOGLYCIDYL ISOCYANURATE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US20190135795A1

  公开（公告）日：2019-05-09

  There are provided a novel isocyanurate compound having a glycidyl group as a substituent to be bonded to a nitrogen atom. A monoglycidyl isocyanurate compound of the following Formula (1), (2), or (3). (wherein two R 1 s are each a C 2-10 alkyl group, two R 2 s are each a C 1-5 alkylene group, two R 3 s are each a C 1-2 alkyl group, two R 4 s are each a C 1-2 alkylene group, and two R 5 s are each a C 1-2 alkyl group.)

  提供了一种新的异氰酸酯化合物，其具有作为取代基的环氧丙烯基与氮原子结合。以下是一种单环氧丙烯基异氰酸酯化合物的化学式（1）、（2）或（3）。其中两个R1均为C2-10烷基基团，两个R2均为C1-5烷基烯基团，两个R3均为C1-2烷基基团，两个R4均为C1-2烷基烯基团，两个R5均为C1-2烷基基团。
• ULTRAVIOLET ABSORBER, COMPOSITION FOR FORMING A RESIST UNDER LAYER FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20160053087A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  The present invention provides an ultraviolet absorber containing a compound represented by the formula (A-1), wherein R represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an allyl group, and R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be the same or different, and each represent a hydrogen atom, a benzoyl group, a toluoyl group, a naphthoyl group, or an anthranoyl group. By adding the ultraviolet absorber to a composition for forming a resist under layer film, reflection can be suppressed particularly in lithography process by an ultraviolet laser, and a pattern profile can be improved without adverse effects on dry etching mask properties and adhesiveness to a resist pattern.

  本发明提供了一种含有式（A-1）所代表的化合物的紫外线吸收剂，其中R代表甲基基团、乙基基团、丙基基团或烯丙基基团，而R1、R2、R3和R4可以相同也可以不同，每个代表氢原子、苯甲酰基、甲苯酰基、萘甲酰基或蒽甲酰基。通过将紫外线吸收剂添加到用于形成抗蚀底层膜的组合物中，可以在紫外线激光的光刻过程中特别抑制反射，并且可以改善图案轮廓而不会对干法刻蚀掩模特性和对抗蚀图案的附着性产生不良影响。
• 신규한 에폭시기 함유 실록산 화합물
  申请人：DEXERIALS CORPORATION 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤(519980693842)

  公开号：KR20150028347A

  公开（公告）日：2015-03-13

  신규한 에폭시기 함유 실록산은, 식 (1) 로 나타낸다. 치환기 R 은 독립적으로 알킬기 또는 페닐기이다. 연결기 A 는 독립적으로 2 가의 탄화수소기이다. 치환기 R1 및 R2 는 독립적으로 에폭시기 함유 유기기, 알킬기 또는 아릴기이지만, R1 및 R2 중 적어도 일방이 에폭시기 함유 유기기이다.

  The newly synthesized epoxy-containing siloxane is represented by equation (1). The substituent R is independently an alkyl or phenyl group. The linker A is independently two hydrocarbon groups. The substituents R1 and R2 are independently epoxy-containing organic groups, alkyl groups, or aryl groups, but at least one of R1 and R2 is an epoxy-containing organic group.