bis(N',N'-dimethylhydrazino)methylsilane | 18163-85-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: bis(N',N'-dimethylhydrazino)methylsilane
• 英文别名: methylbis(2,2-dimethylhydrazino)silane；MeHSi(NHNMe2)2；bis(1,1-dimethylhydrazino)methylsilane；Methyl-bis-(N,N-dimethylhydrazino)-silan；2-[(2,2-Dimethylhydrazinyl)-methylsilyl]-1,1-dimethylhydrazine
• CAS: 18163-85-4
• 化学式: C₅H₁₈N₄Si
• 分子量: 162.31
• InChiKey: OZPKQCRMNJXCGZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  44-45 °C(Press: 9-10 Torr)
• 密度：
  0.8676 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.03
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  30.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis(N',N'-dimethylhydrazino)methylsilane 生成 C₈H₂₈N₆Si₂
  参考文献：
  名称：

  Sergeeva,Z.I.; Se Tszyan-lan', Journal of general chemistry of the USSR, 1963, vol. 33, p. 1823 - 1826

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  甲基二氯硅烷 、 偏二甲肼 以 正己烷 为溶剂， 以43%的产率得到bis(N',N'-dimethylhydrazino)methylsilane
  参考文献：
  名称：

  Syntheses and structures of (N′,N′-dimethylhydrazido)silanes

  摘要：

  叠氮硅烷Ph2Si(NHNMe2)2(1)、Me2Si(NHNMe2)2(2)、PhSi(NHNMe2)3(3)、MeSi(NHNMe2)3(4)、PhClSi(NHNMe2)2(5)、MeClSi(NHNMe2)2(6)、Me2ClSi(NHNMe2)(7)、MeClHSi(NHNMe2)(8)、MeHSi(NHNMe2)2(9)、Me2HSi(NHNMe2)(10)、Me2NN[HSi(NHNMe2)2]2(11)和Si(NHNMe2)4(12)通过相应的氯硅烷与N,N-二甲基肼反应制备得到。一些同时含有Si-Cl和N-H官能团的化合物(6,7,8)反应性很高，倾向于聚合，只能通过光谱学方法(1H、13C、29Si NMR、IR、MS)进行表征。所有其他化合物还可以通过元素分析进行表征。1、2、5、9、11和12的固态结构通过X射线衍射确定。这些包括首次含有SiH-NH-N(9,11)和SiCl-NH-N(5)单元的化合物的结构确定。

  DOI：

  10.1039/b900293f

文献信息

• Precursors for depositing silicon containing films
  申请人：Xiao Manchao

  公开号：US20070004931A1

  公开（公告）日：2007-01-04

  A precursor composition is disclosed for use in the chemical vapor deposition of a material selected from the group consisiting of silicon oxynitride, silicon nitride, and silicon oxide. The composition comprises a hydrazinosilane of the formula: [R 1 2 N—NH] n Si(R 2 ) 4-n where each R 1 is independently selected from alkyl groups of C 1 to C 6 ; each R 2 is independently selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, vinyl, allyl, and phenyl; and n=1-4.

  揭示了一种用于化学气相沉积的前体组合物，所述化学气相沉积用于从硅氧氮化物、氮化硅和氧化硅组成的组中选择材料。该组合物包括具有以下结构的叠氮硅烷： [R1 2 N—NH]nSi(R2)4-n 其中每个R1独立地选择自C1至C6的烷基基团；每个R2独立地选择自氢、烷基、乙烯基、烯丙基和苯基组成的组；n=1-4。
• ——
  作者：V. I. Rakhlin、A. N. Fomina、R. G. Mirskov、V. G. Kanaev、L. G. Larionova、M. G. Voronkov

  DOI：10.1023/a:1022527112583

  日期：——
• Sergeeva,Z.I. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1960, vol. 30, p. 716 - 717
  作者：Sergeeva,Z.I. et al.

  DOI：——

  日期：——
• ——
  作者：A. N. Fomina、B. A. Gostevskii、R. G. Mirskov、M. G. Voronkov、V. I. Rakhlin、V. A. Lopyrev

  DOI：10.1023/a:1015385010312

  日期：——

  Heating of dimethyl (2,2-dimethylhydrazino)si lane and methylbis(2,2-dimethylhydrazino)silane with 1-hexene or styrene in the presence of a catalytic amount of rhodium dicarbonylacetylacetonate gives rise to adducts by the terminal carbon atom (yields 45-84%). The same reactions with phenylacetylene give complex mixtures of products formed primarily by disproportionation of the starting organosilicon reagents.