New methoxylated oligosilyl-substituted metallocenes were synthesized by the reaction of two oligosilanides with different metallocene dichlorides (M = Ti, Zr, and Hf). The first investigated tris(trimethoxysilyl)silanide [(MeO)3Si]3SiK (1) underwent a selective monosubstitution to the respective oligosilyl-decorated metallocenes [(MeO)3Si]3SiMClCp2 (2–4). Surprisingly, the attempted disilylation with
新的甲氧基化低聚
硅烷基取代的茂
金属通过两种低聚
硅烷与不同的茂
金属二
氯化物(M = Ti、Zr 和 Hf)反应合成。首次研究的三(
三甲氧基甲
硅烷基)
硅烷[(MeO) 3 Si] 3 SiK ( 1 ) 对各自的低聚甲
硅烷基修饰的茂
金属 [(MeO) 3 Si] 3 SiMClCp 2 ( 2 – 4 ) 进行了选择性单取代。令人惊讶的是,尝试用这种
硅烷化物进行二甲
硅烷化是不可能的。然而,在二
氯化二茂
钛的情况下,稳定的自由基 [(MeO) 3 Si] 3 SiTiCp 2 ( 5) 成立。双
硅烷化茂
金属的不成功分离鼓励我们研究另一种
硅烷化物的反应性。因此,我们合成了一种迄今为止未知的二
硅烷化合物K[(MeO) 3 Si] 2 Si(SiMe 2 ) 2 Si[(MeO) 3 Si] 2 K ( 8 ),它的收率很高。化合物8与不同的茂
金属二
氯化物(M = Ti、Zr 和 Hf)反应以良好的收率形成
杂环化合物9-11。