1-(2-Methoxyethoxy)-4-methylnaphthalene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-(2-Methoxyethoxy)-4-methylnaphthalene
• 英文别名: 1-(2-methoxyethoxy)-4-methylnaphthalene
• 化学式: C₁₄H₁₆O₂
• 分子量: 216.27
• InChiKey: MCCHICJIAUYACD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3062150B1

  公开（公告）日：2018-06-27
• [EN] METHOD OF FORMING PATTERN, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AUX RADIATIONS, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AUX RADIATIONS, PROCESSUS DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2014142360A1

  公开（公告）日：2014-09-18

  According to one embodiment, a method of forming a pattern includes (a) forming a film of an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, (b) exposing the film to light, and (c) developing the exposed film with a developer comprising an organic solvent to thereby form a negative pattern. The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin whose solubility in the developer comprising an organic solvent is lowered when acted on by an acid, which resin contains a repeating unit with any of lactone structures of general formula (1) below, and (B) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid.
• [EN] NEGATIVE-TYPE ACTIVE-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, RESIST FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTIFS DE TYPE NÉGATIF OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS POUR L'ÉLABORATION DE SOLVANTS ORGANIQUES, FILM DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 有機溶剤現像用ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020137918A1

  公开（公告）日：2020-07-02

  本発明は、（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｂ）特定の一般式（Ｂ－１）又は（Ｂ－２）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により極性が増大する樹脂とを含有する有機溶剤現像用ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記有機溶剤現像用ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。