1-[Cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylnaphthalene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-[Cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylnaphthalene
• 英文别名: 1-[cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylnaphthalene
• 化学式: C17H18N2O4S2
• 分子量: 378.5
• InChiKey: DFXOLFLBOAXOKM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.35
• 拓扑面积：
  87
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

文献信息

• Novel sulfonydiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040033432A1

  公开（公告）日：2004-02-19

  Sulfonyldiazomethane compounds containing a long-chain alkyl- or alkoxy-naphthyl group are novel and useful as photoacid generators. Chemical amplification type resist compositions comprising the same are suited for microfabrication because of many advantages including improved resolution, improved focus latitude, and minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED.

  含有长链烷基或烷氧基萘基的磺酰基二氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。由此组成的化学增强型抗蚀剂配方适用于微细加工，因为具有许多优点，包括提高分辨率、改善焦点宽度、并且即使在长期使用后也能最小化线宽变化或形状退化。
• US7056640B2
  申请人：——

  公开号：US7056640B2

  公开（公告）日：2006-06-06