methyl 2-methyl-2-adamantyl carbonate | 1262126-84-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机碳酸及其衍生物
• 英文名称: methyl 2-methyl-2-adamantyl carbonate
• 英文别名: Methyl (2-methyl-2-adamantyl) carbonate
• CAS: 1262126-84-0
• 化学式: C₁₃H₂₀O₃
• 分子量: 224.3
• InChiKey: GHXSGBCQYNFUTQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-金刚烷醇 、 碳酸二甲酯 在 lanthanum(III) isopropoxide 、 二乙二醇单甲醚 作用下， 反应 89.0h， 以94%的产率得到methyl 2-methyl-2-adamantyl carbonate
  参考文献：
  名称：

  异丙醇镧（III）催化碳酸二甲酯和氨基甲酸甲酯的化学选择性酯交换反应

  摘要：

  使用镧（III）配合物，建立了反应性较低的碳酸二甲酯和反应性较低的氨基甲酸甲酯与伯（1°），仲（2°）和叔（3°）醇的实际酯交换反应原位由异丙醇镧（III）（3摩尔％）和2-（2-甲氧基乙氧基）乙醇（6摩尔％）原位制备。特别地，从对1°-，2°-和3°-醇的选择性保护和/或脱保护的观点来看，获得的相应的碳酸盐和氨基甲酸酯具有合成用途。

  DOI：

  10.1021/ol102754y

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190112265A1

  公开（公告）日：2019-04-18

  A salt comprising a group represented by the formula (aa): wherein X a and X b independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, and X 1 represents a C1-C12 saturated hydrocarbon group which has a moiety represented by formula (1 a ) or (2 a ):

  一种盐，其由公式（aa）表示的基团组成：其中Xa和Xb分别独立地表示氧原子或硫原子，而X1表示具有由公式（1a）或（2a）表示的基团的C1-C12饱和碳氢基团。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20220011668A1

  公开（公告）日：2022-01-13

  A salt represented by formula (I), an acid generator and a resist composition: wherein R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydroxy group, —O—R 10 , —O—CO—O—R 10 , —O-L 1 -CO—O—R 10 ; R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each represent a halogen atom, a hydroxy group, etc.; L 1 represents an alkanediyl group; R 10 represents an acid-labile group; X 1 , X 2 and X 3 each represent an oxygen atom or a sulfur atom; m1 and m7 represent an integer of 0 to 5, m2 to m6 and m8, m9 represent an integer of 0 to 4, in which 0≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤4, 0≤m3+m9≤4, and at least one of m1, m2 and m3 represents an integer of 1 or more; X 4 represents a single bond, —CH 2 —, —O—, —S—, etc.; and AI − represents an organic anion.

  公式（I）表示的盐、酸发生剂和抗蚀组合物：其中R1、R2和R3分别表示羟基、—O—R10、—O—CO—O—R10、—O-L1-CO—O—R10；R4、R5、R6、R7、R8和R9分别表示卤素原子、羟基等；L1表示脂肪二烷基基团；R10表示酸敏感基团；X1、X2和X3分别表示氧原子或硫原子；m1和m7表示0到5的整数，m2到m6和m8、m9表示0到4的整数，其中0≤m1+m7≤5，0≤m2+m8≤4，0≤m3+m9≤4，并且m1、m2和m3中至少有一个表示1或更多的整数；X4表示单键，—CH2—，—O—，—S—等；AI-表示有机阴离子。
• Compound, resin, photoresist composition and process for producing photoresist pattern
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US10747111B2

  公开（公告）日：2020-08-18

  A compound represented by the formula (I): wherein R1, R2, R3, R4, X1, X2, Xa, Xb, L1, L2, L3 and L4 are defined in the specification.

  式 (I) 所代表的化合物： 其中 R1、R2、R3、R4、X1、X2、Xa、Xb、L1、L2、L3 和 L4 的定义见说明书。
• Salt and photoresist composition containing the same
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US10975028B2

  公开（公告）日：2021-04-13

  A salt comprising a group represented by the formula (aa): wherein Xa and Xb independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, and X1 represents a C1-C12 saturated hydrocarbon group which has a moiety represented by formula (1a) or (2a):

  由式 (aa) 所代表的基团组成的盐： 其中 Xa 和 Xb 各自独立地代表氧原子或硫原子，X1 代表具有式 (1a) 或 (2a) 所代表分子的 C1-C12 饱和烃基：
• Photoresist composition and process for producing photoresist pattern
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US11327399B2

  公开（公告）日：2022-05-10

  A photoresist composition comprising a resin which comprises a structural unit represented by the formula (I): and a salt represented by the formula (B1):

  一种光刻胶组合物，包括 由式 (I) 所代表的结构单元组成的树脂： 和式 (B1) 所代表的盐：