(2-Oxohexahydrobenzo[d][1,3]dioxol-5-yl)methyl methacrylate | 1217504-40-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机碳酸及其衍生物
• 英文名称: (2-Oxohexahydrobenzo[d][1,3]dioxol-5-yl)methyl methacrylate
• 英文别名: (2-oxo-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-1,3-benzodioxol-5-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1217504-40-9
• 化学式: C₁₂H₁₆O₅
• 分子量: 240.256
• InChiKey: ZWTPRUUGCQUADJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  61.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯 、 二氧化碳 在 四丁基溴化铵 、 1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine 作用下， 55.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 24.0h， 以40%的产率得到(2-Oxohexahydrobenzo[d][1,3]dioxol-5-yl)methyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  具有环己烯环状碳酸酯侧基的甲基丙烯酸单体的合成-易于固定CO2和自由基聚合

  摘要：

  与常规的高度不可能和高耗能的相比，我们在此介绍了在较温和的条件下使用CO 2捕集剂N-甲基四氢嘧啶（MTHP）在空间受阻的环己烯氧化物甲基丙烯酸酯向其相应的环状碳酸酯甲基丙烯酸酯的容易转化方面的关键作用。在没有高温的情况下进行（高温高压）反应。还针对不同类型的四烷基卤化物盐作为助催化剂的影响对反应条件进行了详细研究（Bu 4MX）和各种温度下。此外，还报道了获得的二取代的环己基-环-碳酸-甲基丙烯酸酯单体的自由基聚合反应以及所得均聚物的表征。

  DOI：

  10.1002/pola.24471

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND AND METHOD OF GENERATING ACID
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20200341376A1

  公开（公告）日：2020-10-29

  A radiation-sensitive resin composition contains: a polymer that includes a structural unit including an acid-labile group; and a radiation-sensitive acid generating agent. The radiation-sensitive acid generating agent includes a sulfonate anion and a radiation-sensitive cation. The sulfonate anion includes two or more rings, and an iodine atom and a monovalent group having 0 to 10 carbon atoms which includes at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom bond to at least one of the two or more rings. The ring is preferably an aromatic ring. The radiation-sensitive acid generating agent is preferably a compound represented by formula (1). In the formula (1), A 1 represents a group obtained from a compound which includes a ring having 3 to 20 ring atoms by removing (p+q+r+1) hydrogen atoms on the ring.

  一种辐射敏感树脂组合物包含：包括含有酸敏感基团的结构单元的聚合物；和辐射敏感酸发生剂。辐射敏感酸发生剂包括磺酸根离子和辐射敏感阳离子。磺酸根离子包括两个或两个以上的环，以及一个碘原子和一个含有0至10个碳原子的一价基团，其中该基团至少包括一个氧原子和一个氮原子，与两个或两个以上的环中的至少一个结合。环最好是芳香环。辐射敏感酸发生剂最好是由式（1）表示的化合物。在式（1）中，A1表示通过去除环上（p+q+r+1）个氢原子而获得的由含有3至20个环原子的环的化合物得到的基团。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2325695A1

  公开（公告）日：2011-05-25

  A radiation-sensitive resin composition includes (A) a polymer, (B) a photoacid generator, (C) an acid diffusion controller, and (D) a solvent, the polymer (A) including a repeating unit (a-1) shown by the following general formula (a-1), and the acid diffusion controller (C) including at least one base selected from (C-1) a base shown by the following general formula (C-1) and (C-2) a photodegradable base. wherein R1 individually represent a hydrogen atom or the like, R represents a monovalent group shown by the above general formula (a'), R19 represents a chain-like hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or the like, A represents a divalent chain-like hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or the like, m and n are integers from 0 to 3 (m+n=1 to 3), and R2 and R3 individually represent a monovalent chain-like hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like, provided that the two R2 may bond to form a ring structure.

  一种辐射敏感树脂组合物包括（A）聚合物、（B）光酸发生器、（C）酸扩散控制器和（D）溶剂，聚合物（A）包括如下通式（a-1）所示的重复单元（a-1），酸扩散控制器（C）包括至少一种选自（C-1）如下通式（C-1）所示的碱和（C-2）可光降解碱的碱。 其中 R1 单独代表氢原子或类似物，R 代表上述通式（a'）所示的一价基团，R19 代表具有 1 至 5 个碳原子或类似物的链状烃基，A 代表具有 1 至 30 个碳原子或类似物的二价链状烃基，m 和 n 是 0 至 3 的整数（m+n=1 至 3），R2 和 R3 单独代表具有 1 至 20 个碳原子或类似物的一价链状烃基，条件是两个 R2 可以键合形成环状结构。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
  申请人：Ebata Takuma

  公开号：US20110223537A1

  公开（公告）日：2011-09-15

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, a photoacid generator, and an acid diffusion controller. The polymer includes a first repeating unit shown by a following formula (a-1). The acid diffusion controller includes at least one of a base shown by a following formula (C-1) and a photodegradable base, wherein each R 1 represents a hydrogen atom or the like, R represents a monovalent group shown by an above formula (a′), each R 19 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or the like, A represents a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or the like, and m and n are integers from 0 to 3 (m+n=1 to 3), wherein each of R 2 and R 3 represents a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like.
• US20140255854A1
  申请人：——

  公开号：US20140255854A1

  公开（公告）日：2014-09-11
• US9229323B2
  申请人：——

  公开号：US9229323B2

  公开（公告）日：2016-01-05